[發(fā)明專利]一種釹玻璃包邊面形測量裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201611230615.9
• 申請日: 2016-12-27
• 公開（公告）號: CN106855397B
• 公開（公告）日: 2019-05-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 唐景平;王鵬;沈衛(wèi)星;王福民
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州虹貫精益智能科技有限公司
• 主分類號: G01B11/24
• 分類號: G01B11/24
• 代理公司: 南京蘇科專利代理有限責(zé)任公司 32102
• 代理人: 陳望坡;黃春松

本發(fā)明公開了一種釹玻璃包邊面形測量裝置，包括安裝架，在安裝架上設(shè)置有釹玻璃包邊放置平臺，在釹玻璃包邊放置平臺上方的安裝架上設(shè)置有左右走向的導(dǎo)軌，在導(dǎo)軌上滑動設(shè)置有能在導(dǎo)軌上左右移動的干涉儀，在干涉儀的二維調(diào)整架上設(shè)置有標準塊，在標準塊左右兩側(cè)的安裝架上分別相對設(shè)置有測角激光器及測角相機，所述測角激光器射出的激光光束經(jīng)過標準塊左右兩表面后能被測角相機所接收。本發(fā)明的優(yōu)點是：能對標準塊的相對偏轉(zhuǎn)角進行測量，標準塊相對偏轉(zhuǎn)角可用于輔助修正干涉儀的測量值，大大提高了對釹玻璃包邊的面形檢測精度。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光學(xué)精密測量技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種釹玻璃包邊面形測量裝置。

背景技術(shù)

釹玻璃是大型高功率固定激光裝置放大器的主要激光放大介質(zhì)，釹玻離作為放大工作介質(zhì)時，釹玻璃需要包邊來抑制激光信號增益時的自發(fā)輻射。為保證釹玻璃包邊能與釹玻璃穩(wěn)定膠合，因此在釹玻璃膠合包邊之間必須對釹玻璃包邊的面形精度(面形精度簡稱PV)進行測量，干涉儀是常用的精密測量設(shè)備。目前所使用的釹玻璃包邊面形測量裝置存在面形檢測精度低的缺點。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是提供一種面形檢測精度高的釹玻璃包邊面形測量裝置。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用了如下技術(shù)方案：所述的一種釹玻璃包邊面形測量裝置，包括安裝架，在安裝架上設(shè)置有釹玻璃包邊放置平臺，在釹玻璃包邊放置平臺上方的安裝架上設(shè)置有左右走向的導(dǎo)軌，在導(dǎo)軌上滑動設(shè)置有能在導(dǎo)軌上左右移動的干涉儀，在干涉儀的二維調(diào)整架上設(shè)置有標準塊，在標準塊左右兩側(cè)的安裝架上分別相對設(shè)置有測角激光器及測角相機，所述測角激光器射出的激光光束經(jīng)過標準塊左右兩表面后能被測角相機所接收。

進一步地，前述的一種釹玻璃包邊面形測量裝置，其中：所述標準塊的結(jié)構(gòu)為：標準塊呈長方體，標準塊的寬度與釹玻璃包邊寬度相匹配，標準塊的長度為其寬度的1.5～2倍，標準塊的高度為其長度的1/6倍，標準塊上表面的面形精度PV≤λ/2，標準塊下表面的面形精度PV≤λ/10，標準塊左表面的面形精度PV≤λ/2，標準塊右表面的面形精度PV≤λ/2，標準塊的上表面與下表面之間形成的楔角為3～5′，并且標準塊的左表面與右表面之間形成的楔角能確保測角激光器射出的激光光束經(jīng)過標準塊左右兩表面后能被測角相機所接收。

進一步地，前述的一種釹玻璃包邊面形測量裝置，其中：在安裝架上由左到右依次設(shè)置有若干卡位點，相鄰卡位點之間的距離正好與標準塊長度相匹配。

通過上述技術(shù)方案的實施，本發(fā)明的優(yōu)點是：能對標準塊的相對偏轉(zhuǎn)角進行測量，標準塊相對偏轉(zhuǎn)角可用于輔助修正干涉儀的測量值，大大提高了對釹玻璃包邊的面形檢測精度。

附圖說明

圖1為本發(fā)明所述的一種釹玻璃包邊面形測量裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖和具體實施例對本發(fā)明作進一步說明。