[發明專利]一種雙節疊層并聯的碲化鎘薄膜太陽能電池制造工藝方法有效

申請號：	201611226853.2	申請日：	2016-12-27
公開（公告）號：	CN106711284B	公開（公告）日：	2018-06-15
發明（設計）人：	鄢開均;何光俊;齊鵬飛;陳金良;賴新暖;牛改宇	申請（專利權）人：	中山瑞科新能源有限公司
主分類號：	H01L31/18	分類號：	H01L31/18;H01L31/0296
代理公司：	廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205	代理人：	伍傳松
地址：	528437 廣東***	國省代碼：	廣東;44
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摘要：
搜索關鍵詞：	沉積第一層硫化鎘碲化鎘碲化鎘薄膜太陽能電池清洗襯底玻璃活化處理激光刻線制造工藝背電極氯化鎘并聯疊層活化雙節有效降低電池碲化鎘電池沉積金屬封裝測試工藝改善激光刻畫開路電壓轉化效率緩沖層磨邊激光電池
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【權利要求書】：

1.一種雙節疊層并聯的碲化鎘薄膜太陽能電池制造工藝方法，其特征在于，包括以下步驟：(1)將襯底玻璃磨邊；(2)在襯底玻璃上沉積TCO導電玻璃并清洗；(3)在TCO導電玻璃上沉積第一層硫化鎘；(4)在第一層硫化鎘上沉積第一層碲化鎘；(5)第一次氯化鎘活化處理；(6)第一次活化后清洗；(7)在第一層碲化鎘上面沉積第二層硫化鎘；(8)在第二層硫化鎘上面沉積第二層碲化鎘；(9)第二次氯化鎘活化處理；(10)第二次活化后清洗；(11)P1激光刻線；(12)沉積緩沖層；(13)P2激光刻線；(14)沉積金屬背電極；(15)P3激光刻畫背電極；(16)激光掃邊；(17)封裝測試；所述第一層硫化鎘厚度為100nm，第一層碲化鎘厚度為500nm，第二層硫化鎘厚度為400nm，第二層碲化鎘厚度為3um。

2.根據權利要求1所述的一種雙節疊層并聯的碲化鎘薄膜太陽能電池制造工藝方法，其特征在于，所述步驟(11)、(13)和(15)采用并聯的方式刻線，P1\P2\P3激光刻線重合，封裝的時候再用并聯連接的方式連接線路。

3.根據權利要求1所述的一種雙節疊層并聯的碲化鎘薄膜太陽能電池制造工藝方法，其特征在于，所述第一層硫化鎘與第一層碲化鎘組成的第一個PN結，第二層硫化鎘與第二層碲化鎘組成的第二個PN結，第一個PN結與第二個PN結串聯。

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