[發明專利]免插電富氫負離子濃度穩定持久產生裝置

有效

• 申請號: 201611226541.1
• 申請日: 2016-12-27
• 公開（公告）號: CN108238670B
• 公開（公告）日: 2021-02-19
• 發明（設計）人: 蔡彥欣;黃泓杰
• 申請（專利權）人: 鑫沂創富生技有限公司;蔡彥欣
• 主分類號: C02F1/66
• 分類號: C02F1/66
• 代理公司: 北京匯智英財專利代理事務所(普通合伙) 11301
• 代理人: 鄭玉潔

1.一種免插電富氫負離子濃度穩定持久產生裝置，其特征在于，包括：

一外殼，具有一上蓋以及一本體，該上蓋的頂部具有一頸部，該頸部的頂端設有一第一出入水口，而該頸部的側邊設有多個第二出入水口，在該本體內具有一容置空間；以及

一內殼，由可釋放負氫離子的材質制成且容置于該外殼的容置空間內，其中，該內殼底部設有至少一第一出入水口以及一第一出入水道，在該第一出入水道上具有一第一制造室以及一第二制造室，該第一制造室、第二制造室中間借由一第二出水道以及一第三出入水道分開，其中，該第三出入水道為環形中空結構，其內具有一第一氣室，而該第二出入水道貫穿于該第三出入水道，進而連通該第一制造室、第二制造室，該內殼內具有多個濾膜，這些濾膜設于該第一出入水口以及這些出入水道的兩端，而一該濾膜設于該內殼頂部，并區隔出一第二氣室，一水管自該內殼的頂部開口穿設于該第二氣室、第二制造室以及該第一氣室內，該水管在該第一氣室處開設有至少一出入水孔，在該第二氣室處設有至少一氣孔，并且，該內殼設有多個氣孔，其中，該內殼的頂部殼上設有一貫穿殼壁的氣孔，該第二出入水道上設有一橫向貫穿的氣孔，供氣體排出，避免氣體堵塞這些出入水孔。

2.如權利要求1所述的免插電富氫負離子濃度穩定持久產生裝置，其特征在于，該內殼、外殼之間通過一連接組件緊密結合在一起，且相通。

3.如權利要求1所述的免插電富氫負離子濃度穩定持久產生裝置，其特征在于，這些濾膜用以隔離水中雜物，由有孔隙的材料制成。

4.如權利要求1所述的免插電富氫負離子濃度穩定持久產生裝置，其特征在于，這些第一制造室、第二制造室內能填入各式會改變水特性的溶質。

5.如權利要求1所述的免插電富氫負離子濃度穩定持久產生裝置，其特征在于，該第一制造室、第二制造室內能通過這些濾膜形成多個隔間。

6.如權利要求1所述的免插電富氫負離子濃度穩定持久產生裝置，其特征在于，在該第二制造室內的水管上設有多個出入水孔。

7.如權利要求1所述的免插電富氫負離子濃度穩定持久產生裝置，其特征在于，一原水自這些第二出入水口灌入，流入該容置空間內，從該內殼的該第一出入水口以及該第一出入水道進入該內殼的該第一制造室中，該原水在該第一制造室中與該溶質混合后成為一混合水，該混合水自該第二出入水道流至該第二制造室中，該混合水進入該第二制造室后與其中的該溶質混合，接著該混合水自該第三出入水道流入該第一氣室內，流入該第一氣室的該混合水自該水管的出入水孔流入該水管中，受水壓影響，該混合水自該外殼的該第一出入水口流出。

8.如權利要求1所述的免插電富氫負離子濃度穩定持久產生裝置，其特征在于，該原水自該第一出入水口灌入，直接流入該內殼的該水管內，并自該出入水孔流入該第一氣室內，受水壓影響，水自該第一氣室流入該第二制造室與該溶質混合，形成該混合水，接著該混合水通過該第二出入水道流入該第一制造室中，與該第一制造室的溶質混合，并通過該第一出入水道，自該第一出入水口流入該外殼的容置空間內，該混合水充滿該容置空間后，受水壓影響，從該第二出入水口流出。