[發(fā)明專利]一種碲化鎘薄膜太陽能電池吸收層的沉積方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611223290.1 | 申請日: | 2016-12-27 |
| 公開(公告)號: | CN106653946B | 公開(公告)日: | 2018-07-06 |
| 發(fā)明(設計)人: | 馬立云;彭壽;潘錦功;殷新建;蔣猛 | 申請(專利權)人: | 成都中建材光電材料有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L31/0296;C23C14/06;C23C14/24 |
| 代理公司: | 成都市集智匯華知識產權代理事務所(普通合伙) 51237 | 代理人: | 李華;溫黎娟 |
| 地址: | 610000 四川省成*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 吸收層 沉積 碲化鎘薄膜太陽能電池 電池 帶隙 近空間升華法 三元組合物 短路電流 多源蒸發(fā) 開路電壓 生產節(jié)拍 填充因子 吸收譜 蒸發(fā)源 漸變 產能 襯底 薄膜 玻璃 拓展 | ||
1.一種碲化鎘薄膜太陽能電池吸收層的沉積方法,其特征在于:它以三元組合物CdSexTe1-x作為原材料,利用近空間升華法在具有TCO/CdS薄膜的玻璃襯底上連續(xù)多次沉積CdSexTe1-x,其中CdSexTe1-x的x值為0≤x≤1,除第一次沉積和最后一次沉積的CdSexTe1-x外,其余沉積的CdSexTe1-x中0<x<1,所述TCO/CdS薄膜的玻璃襯底上每次沉積的CdSexTe1-x中x值均不相同。
2.根據權利要求1所述的一種碲化鎘薄膜太陽能電池吸收層的沉積方法,其特征在于:所述近空間升華法的蒸發(fā)源個數與CdSexTe1-x沉積次數匹配。
3.根據權利要求1所述的一種碲化鎘薄膜太陽能電池吸收層的沉積方法,其特征在于:所述CdSexTe1-x的沉積次數不少于三次。
4.根據權利要求1所述的一種碲化鎘薄膜太陽能電池吸收層的沉積方法,其特征在于:具體包括以下步驟:
(1)準備具有TCO/CdS薄膜的玻璃襯底和數個蒸發(fā)源,每個蒸發(fā)源內的材料為三元組合物CdSexTe1-x,且0≤x≤1;
(2)采用近空間升華法在玻璃襯底上沉積CdSexTe1-x,第一個蒸發(fā)源在玻璃襯底上沉積好第一層CdSexTe1-x后傳至第二個蒸發(fā)源沉積第二層CdSexTe1-x,如此往復,直至傳至最后一個蒸發(fā)源沉積最后一層CdSexTe1-x;所述第一層和最后一層CdSexTe1-x中0≤x≤1,其余各層CdSexTe1-x中0<x<1;所述每個蒸發(fā)源中三元組合物CdSexTe1-x的x值均不相同。
5.根據權利要求4所述的一種碲化鎘薄膜太陽能電池吸收層的沉積方法,其特征在于:所述蒸發(fā)源為近空間升華法所使用的蒸發(fā)坩堝。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





