[發明專利]一種實現離子源均勻照射鍍膜基片的鍍膜方法有效
| 申請號： | 201611222559.4 | 申請日： | 2016-12-27 |
| 公開（公告）號： | CN106399950B | 公開（公告）日： | 2019-02-26 |
| 發明（設計）人： | 龍汝磊;戴秀海;余龍;孫英會 | 申請（專利權）人： | 光馳科技（上海）有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/28 | 分類號： | C23C14/28 |
| 代理公司： | 上海申蒙商標專利代理有限公司 31214 | 代理人： | 徐小蓉 |
| 地址： | 200444 上海市寶*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 實現 離子源 均勻 照射 鍍膜 方法 | ||
【權利要求書】：
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