[發明專利]掩膜板本體、掩膜板及其制作方法有效
| 申請號: | 201611218750.1 | 申請日: | 2016-12-26 |
| 公開(公告)號: | CN106591775B | 公開(公告)日: | 2019-06-07 |
| 發明(設計)人: | 林治明;王震;張健 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人: | 姜春咸;陳源 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 掩膜板 掩膜區 彎曲部 拉伸方向 預設 非掩膜區 褶皺現象 階梯式 延伸 制作 環繞 | ||
1.一種掩膜板本體,包括至少一個掩膜區和環繞在所述掩膜區周圍的非掩膜區,其特征在于,所述掩膜板本體沿預設拉伸方向延伸的邊緣的對應于所述掩膜區的部分設置為彎曲部;從所述彎曲部的至少一端至所述彎曲部的中部,所述彎曲部逐漸靠近或呈階梯式靠近所述掩膜區沿所述預設拉伸方向延伸的邊緣;所述預設拉伸方向為所述掩膜板本體的長度方向或寬度方向。
2.根據權利要求1所述的掩膜板本體,其特征在于,從所述彎曲部的兩端至中部,所述彎曲部逐漸靠近或呈階梯式靠近所述掩膜區。
3.根據權利要求2所述的掩膜板本體,其特征在于,所述彎曲部為弧形。
4.根據權利要求2所述的掩膜板本體,其特征在于,所述掩膜區沿所述預設拉伸方向的尺寸在100mm~120mm之間;
所述彎曲部的兩端到所述掩膜區的距離與所述彎曲部的中部到所述掩膜區的距離之間的差值均在[140L,160L]μm內,所述彎曲部的中部到所述掩膜區的距離在380μm~420μm之間;
其中,L為與所述掩膜板本體對應的參考掩膜板本體在受到所述預設拉伸方向上的拉伸時,所述參考掩膜板本體的邊緣中部朝向所述參考掩膜板本體內部收縮的值。
5.根據權利要求1至4中任意一項所述的掩膜板本體,其特征在于,所述掩膜板本體的長度在800mm~900mm之間,寬度在80mm~100mm之間,厚度在20μm~40μm之間;所述預設拉伸方向為所述掩膜板本體的長度方向。
6.根據權利要求1至4中任意一項所述的掩膜板本體,其特征在于,制成所述掩膜板本體的材料包括殷鋼。
7.根據權利要求1至4中任意一項所述的掩膜板本體,其特征在于,沿所述預設拉伸方向,所述掩膜板本體位于所有掩膜區所在區域的兩側的部分中,每部分均包括:兩個沿所述預設拉伸方向延伸的延伸部以及連接在兩個所述延伸部之間的連接部,所述連接部與所述延伸部靠近所述掩膜區的一端相連。
8.一種掩膜板的制作方法,其特征在于,包括:
提供掩膜板本體,所述掩膜板本體為權利要求1至7中任意一項所述的掩膜板本體;
在所述掩膜板本體沿所述預設拉伸方向的兩端分別施加沿所述預設拉伸方向、且朝向所述掩膜板本體外部的拉力。
9.根據權利要求8所述的制作方法,其特征在于,施加在所述掩膜板本體每一端的拉力均由1N~3N逐漸增大至8N~12N。
10.根據權利要求8所述的制作方法,其特征在于,當所述掩膜板本體包括沿所述預設拉伸方向延伸的延伸部時,所述拉力施加在所述延伸部背離所述掩膜區的一端。
11.一種掩膜板,其特征在于,所述掩膜板包括權利要求1至7中任意一項所述的掩膜板本體。
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