[發明專利]一種成像光譜儀定標位置修正的方法及裝置

有效

• 申請號: 201611217915.3
• 申請日: 2016-12-26
• 公開（公告）號: CN106769909B
• 公開（公告）日: 2019-07-09
• 發明（設計）人: 崔繼承;王明佳;朱繼偉;姚雪峰;潘明忠
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
• 主分類號: G01N21/27
• 分類號: G01N21/27
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 羅滿

1.一種成像光譜儀定標位置修正的方法，其特征在于，包括：

根據圖像處理方法分別計算預設個數的定標波長對應在成像光譜儀成像圖中的光斑實際位置；

根據光學理論設計方法分別計算各所述定標波長對應在成像光譜儀成像圖中的光斑理論位置；

計算各所述光斑實際位置與相應的光斑理論位置的偏差，并根據各所述偏差調整成像光譜儀譜圖矩陣中相應波長對應的位置，以完成對成像光譜儀定標位置的修正；

當所述預設個數為5個時，所述根據當前波長與各所述定標波長的關系以及各所述偏差對成像光譜儀譜圖矩陣中各非定波波長的波長對應的位置進行修正為：

根據下述公式所得的平移量對成像光譜儀譜圖矩陣中各所述非定波波長的波長對應的位置在x方向進行平移，以完成對成像光譜儀譜圖矩陣中各所述非定波波長的波長對應的位置的修正：

式中，a、b、c、d、e分別為各所述定標波長在成像光譜儀譜圖矩陣上x方向上對應的位置值，Δa、Δb、Δc、Δd、Δe分別為各所述定標波長的光斑實際位置與相應的光斑理論位置在x方向上的偏差，x為所述當前波長在成像光譜儀譜圖矩陣上x方向上對應的位置值。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述并根據各所述偏差調整成像光譜儀譜圖矩陣中相應波長對應的位置，以完成對成像光譜儀定標位置的修正之后還包括：

根據當前波長與各所述定標波長的關系，以及各所述偏差對成像光譜儀譜圖矩陣中各非定波波長的波長對應的位置進行修正。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述預設個數的定標波長為5個定標波長或9個定標波長。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述計算各所述光斑實際位置與相應的光斑理論位置的偏差為：

計算各所述光斑實際位置與相應的光斑理論位置在x方向的偏差。

5.根據權利要求1至4任意一項所述的方法，其特征在于，所述根據圖像處理方法分別計算預設個數的定標波長對應在成像光譜儀成像圖中的光斑實際位置為：

根據所述圖像處理方法分別計算預設個數的定標波長在各預設幅數成像光譜儀成像圖中對應的子光斑實際位置；

將每一個所述定標波長對應的各所述子光斑實際位置進行累加取平均，以作為相應定標波長對應在成像光譜儀成像圖中的光斑實際位置。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述計算各所述光斑實際位置與相應的光斑理論位置的偏差為：

計算每一個所述定標波長對應的各所述子光斑實際位置與相應的光斑理論位置的子偏差，將各所述子偏差進行累加取平均，以作為相應定標波長對應的偏差。

7.一種成像光譜儀定標位置修正的裝置，其特征在于，包括：

實際定標位置計算模塊，用于根據圖像處理方法分別計算預設個數的定標波長對應在成像光譜儀成像圖中的光斑實際位置；

理論定標位置計算模塊，用于根據光學理論設計方法分別計算各所述定標波長對應在成像光譜儀成像圖中的光斑理論位置；

定標位置修正模塊，用于計算各所述光斑實際位置與相應的光斑理論位置的偏差，并根據各所述偏差調整相應的光斑實際位置，以完成對成像光譜儀定標位置的修正；

所述非定標位置修正模塊為根據下述公式所得的平移量對成像光譜儀譜圖矩陣中各所述非定波波長的波長對應的位置在x方向進行平移，以完成對成像光譜儀譜圖矩陣中各所述非定波波長的波長對應的位置的修正的模塊：

式中，a、b、c、d、e分別為各所述定標波長在成像光譜儀譜圖矩陣上x方向上對應的位置值，Δa、Δb、Δc、Δd、Δe分別為各所述定標波長的光斑實際位置與相應的光斑理論位置在x方向上的偏差，x為所述當前波長在成像光譜儀譜圖矩陣上x方向上對應的位置值。

8.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，還包括：

非定標位置修正模塊，用于根據當前波長與各所述定標波長的關系，以及各所述偏差對成像光譜儀譜圖矩陣中各非定波波長的波長對應的位置進行修正。