[發(fā)明專利]六方氮化硼修飾石墨化氮化碳復(fù)合光催化劑及其制備方法和應(yīng)用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611217550.4 | 申請日: | 2016-12-26 |
| 公開(公告)號: | CN106732727B | 公開(公告)日: | 2019-05-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 袁興中;蔣龍波;梁婕;王侯;吳志斌;張進;陳曉紅;李輝;曾光明 | 申請(專利權(quán))人: | 湖南大學 |
| 主分類號: | B01J27/24 | 分類號: | B01J27/24;B01J35/10;C02F1/30 |
| 代理公司: | 湖南兆弘專利事務(wù)所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 趙洪;何文紅 |
| 地址: | 410082 湖南省長沙*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氮化 修飾 石墨 復(fù)合 光催化劑 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
1.一種六方氮化硼修飾石墨化氮化碳復(fù)合光催化劑,其特征在于,所述六方氮化硼修飾石墨化氮化碳復(fù)合光催化劑以石墨化氮化碳為載體,所述石墨化氮化碳載體上修飾有層狀六方氮化硼;所述六方氮化硼修飾石墨化氮化碳復(fù)合光催化劑中所述六方氮化硼的質(zhì)量百分含量為0.44%~0.88%。
2.一種如權(quán)利要求1所述的六方氮化硼修飾石墨化氮化碳復(fù)合光催化劑的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:將六方氮化硼與石墨化氮化碳前驅(qū)體混合,得到混合物前驅(qū)體;將所述混合物前驅(qū)體進行煅燒,得到六方氮化硼修飾石墨化氮化碳復(fù)合光催化劑;所述六方氮化硼與石墨化氮化碳前驅(qū)體的質(zhì)量比為0.2%~0.4%。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于,所述混合的方法為:將六方氮化硼與石墨化氮化碳前驅(qū)體置于瑪瑙研缽中,研磨30 min~60 min,得到混合物。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法,其特征在于,所述石墨化氮化碳前驅(qū)體為雙氰胺和三聚氰胺中的一種或兩種。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于,所述煅燒過程中的升溫速率為2.3℃/min~10℃/min;所述煅燒的溫度為500℃~550℃;所述煅燒的時間為2h~6h。
6.一種如權(quán)利要求1所述的六方氮化硼修飾石墨化氮化碳復(fù)合光催化劑在降解染料廢水中的應(yīng)用。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的應(yīng)用,其特征在于,包括以下步驟:將六方氮化硼修飾石墨化氮化碳復(fù)合光催化劑添加到染料廢水中,在暗處攪拌達到吸附平衡;然后在光照條件下進行光催化反應(yīng),完成對染料廢水的降解;所述六方氮化硼修飾石墨化氮化碳復(fù)合光催化劑的添加量為每升所述染料廢水中添加所述六方氮化硼修飾石墨化氮化碳復(fù)合光催化劑0.3g~0.8g。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的應(yīng)用,其特征在于,所述染料廢水為羅丹明B染料廢水;所述羅丹明B染料廢水中羅丹明B的濃度為10mg/L~50mg/L。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于湖南大學,未經(jīng)湖南大學許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201611217550.4/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 導(dǎo)電化合物上的大晶粒低電阻率鎢
- 基于六方氮化硼和磁控濺射氮化鋁的氮化鎵生長方法
- 一種氮化鋁復(fù)合緩沖層及制備方法及氮化鎵基半導(dǎo)體器件
- 鎵解理面III族/氮化物磊晶結(jié)構(gòu)及其主動元件與其制作方法
- 一種氮化鋁復(fù)合緩沖層及氮化鎵基半導(dǎo)體器件
- 連續(xù)氮化處理爐和連續(xù)氮化處理方法
- 一種氮化雙向供氣裝置以及氮化雙向供氣系統(tǒng)
- 一種氮化雙向供氣裝置以及氮化雙向供氣系統(tǒng)
- 鎵解理面III族/氮化物磊晶結(jié)構(gòu)及其主動元件與其制作方法
- 鎵解理面III族/氮化物磊晶結(jié)構(gòu)及其主動元件與其制作方法





