[發(fā)明專利]一種使用感光涂料進行玻璃上色的工藝及其應(yīng)用在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611216874.6 | 申請日: | 2016-12-26 |
| 公開(公告)號: | CN108383395A | 公開(公告)日: | 2018-08-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 周群飛;饒橋兵;王弦 | 申請(專利權(quán))人: | 藍思科技(長沙)有限公司 |
| 主分類號: | C03C17/34 | 分類號: | C03C17/34;G03F7/00 |
| 代理公司: | 北京超凡志成知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 郭俊霞 |
| 地址: | 410000 湖南省長*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 噴涂 玻璃 薄膜 玻璃上色 感光涂料 第一層 烘烤 曝光 常規(guī)工藝 工藝應(yīng)用 底涂料 顯影液 上色 顯影 優(yōu)選 應(yīng)用 | ||
本發(fā)明提供了一種使用感光涂料進行玻璃上色的工藝,所述工藝包括以下步驟:1)在玻璃上噴涂第一層薄膜,烘烤后曝光;2)在第一層薄膜上噴涂第二層薄膜,烘烤后曝光;3)使用顯影液顯影后進行固烤;4)按照常規(guī)工藝噴涂蓋底涂料。本發(fā)明還提供了所述工藝的應(yīng)用,優(yōu)選地,所述工藝應(yīng)用在2D玻璃、3D玻璃、2.5D玻璃以及多邊彎玻璃的上色中。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及材料領(lǐng)域,具體而言,涉及一種使用感光涂料進行玻璃上色的工藝及其應(yīng)用。
背景技術(shù)
在現(xiàn)有黃光制作工藝中,其使用光阻/光油/感光油墨/感光油漆等涂料,工藝流程包括:噴涂-預(yù)烤-曝光-顯影-固烤-清洗-噴涂-預(yù)烤-曝光-顯影-固烤-清洗,如此類推。其中,每次噴涂后均需曝光/顯影/固烤完成上色效果要求,現(xiàn)有工藝生產(chǎn)工序復(fù)雜、誤工費時,而且工作過程中經(jīng)常因為環(huán)境/設(shè)備潔凈度等外在因數(shù)易導(dǎo)致的砂眼/邊透/褶皺等不良居高不下,耽誤出貨,因此可靠性較低,成本較高。
因此,為了克服現(xiàn)有技術(shù)中多次顯影造成的制程良率低,成本高的問題,需要一種噴涂方法,從噴涂條件著手進行優(yōu)化,以減少顯影次數(shù),進而提高制程良率。
有鑒于此,特提出本發(fā)明。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的第一目的在于提供一種使用感光涂料進行玻璃上色的工藝,所述工藝使用兩曝一顯的思路,噴涂中對條件參數(shù)進行嚴(yán)格限定和控制,使得兩次噴涂后的玻璃品質(zhì)優(yōu)秀,砂眼、色差、邊透等不良次品的出現(xiàn)率大大降低。
本發(fā)明的第二目的在于提供一種所述工藝的應(yīng)用,所述工藝既可以應(yīng)用于噴涂普通2D玻璃,也可以應(yīng)用于噴涂2.5D、3D以及多邊彎玻璃,噴涂效果好,制程良率高。
為了實現(xiàn)本發(fā)明的上述目的,特采用以下技術(shù)方案:
本發(fā)明的一個方面涉及一種使用感光涂料進行玻璃上色的工藝,所述工藝包括以下步驟:
1)在玻璃上噴涂第一層薄膜,進行烘烤后曝光;
2)在第一層薄膜上噴涂第二層薄膜,進行烘烤后曝光;
3)使用顯影液顯影后進行固烤;
4)按照常規(guī)工藝噴涂蓋底涂料。
本發(fā)明的工藝在兩次“噴涂-曝光-烘烤”的工序后,進行統(tǒng)一的顯影處理,省略了其中一次顯影,一方面降低了工藝制備出的次品率,一方面節(jié)約了生產(chǎn)成本。
優(yōu)選地,所述第一層薄膜的厚度為17-20μm,所述第二層薄膜的厚度為4-7μm。
第一層薄膜的厚度如果偏薄,在顯影后,由于第二層薄膜表面可能存在砂眼,其經(jīng)過蓋底色后砂眼位置可能存在色差。而第一層過厚則顯影后弧邊易殘留。因此,第一層薄膜的厚度應(yīng)該比第二層略厚。第二層薄膜的噴涂目的在于加固第一層固化不完全位置即會出現(xiàn)砂眼的位置,兩層砂眼出現(xiàn)在第一層和第二層同一個位置的概率極低,且因第一層膜厚較厚,第二層膜厚很薄,即使顯影后第二層表面有砂眼,也不影響正常外觀。按照本發(fā)明的厚度進行噴涂,可以使得噴涂后的制程良率達到最高。
優(yōu)選地,所述步驟1)和步驟2)中的噴涂霧化氣壓為3.5-4.5kg/cm2。
優(yōu)選地,所述步驟1)和步驟2)中的烘烤溫度均小于110℃,優(yōu)選地,所述步驟1)中的烘烤溫度應(yīng)比所述步驟2)中低10-30℃。
優(yōu)選地,所述步驟1)和步驟2)中的烘烤時間小于10min。
首次烘烤的溫度過高或者烘烤時間過長時,后續(xù)顯影工藝中容易在第二層弧邊出現(xiàn)殘留,而烘烤溫度過低或烘烤時間不足時,則顯影后第二層容易存在牙缺。
優(yōu)選地,所述步驟1)和步驟2)中的曝光能量為200-1500mj。
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