[發(fā)明專利]一種POSS交聯(lián)聚芳酯紫外光固化防護(hù)涂層及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611214150.8 | 申請日: | 2016-12-23 |
| 公開(公告)號: | CN107090238B | 公開(公告)日: | 2019-06-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 不公告發(fā)明人 | 申請(專利權(quán))人: | 寧波海格拉新材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C09D167/02 | 分類號: | C09D167/02;C09D183/07;C09D5/08;C09D5/18;C08G63/91 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 poss 交聯(lián) 聚芳酯 紫外 光固化 防護(hù) 涂層 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種POSS交聯(lián)聚芳酯紫外光固化防護(hù)涂層,其包括如下的組分及其質(zhì)量含量:烯端基聚芳酯低聚物:70~99%;八乙烯基?POSS:0.5~28%;光引發(fā)劑:0.05~2%;消泡劑:0.1~0.5%;流平劑:0.1~0.5%。本發(fā)明還公開了上述POSS交聯(lián)聚芳酯紫外光固化防護(hù)涂層的制備方法。本發(fā)明POSS交聯(lián)聚芳酯涂層不僅保持了聚芳酯材料優(yōu)異的耐化學(xué)腐蝕性、耐候性、耐高低溫性能以及良好的阻燃性能和極低的吸濕性,還因POSS的存在而具有極高的硬度和優(yōu)異的防磨損性能,非常適合用于惡劣環(huán)境下基材的耐磨防腐涂層材料。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種POSS交聯(lián)聚芳酯紫外光固化防護(hù)涂層及其制備方法,屬于光固化涂層制備領(lǐng)域。
背景技術(shù)
磨損、斷裂和腐蝕是材料失效的三大主要形式,因而開發(fā)防腐耐磨的高性能防護(hù)涂層材料對延長基體材料的使用壽命具有重要意義。
聚芳酯是指酯基兩端連接芳環(huán)的聚合物,在工業(yè)上多指雙酚A和對苯二甲酸(或?qū)Ρ蕉柞B?及間苯二甲酸(或間苯二甲酰氯)為原料縮聚得到的聚芳酯樹脂。聚芳酯由于分子鏈中含有大量的芳族單元,并且連接這些芳環(huán)的是性能穩(wěn)定的酯鍵,因而具有優(yōu)異的耐化學(xué)腐蝕性、耐候性、良好的阻燃性能和極低的吸濕率,并且使用溫度較廣,可在-70~+180℃下長期使用,非常適合用于惡劣環(huán)境下(高溫、低溫、化學(xué)腐蝕、潮濕等)基材的防腐涂層材料。然而,由于聚芳酯難溶于有機(jī)溶劑,目前聚芳酯在防護(hù)涂層領(lǐng)域的應(yīng)用還較少。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在提供一種紫外光固化多面體低聚倍半硅氧烷(POSS)填充并交聯(lián)的聚芳酯防護(hù)涂層及其制備方法。所述紫外光固化涂層中的POSS納米顆粒具有優(yōu)異的分散性,所制備的聚芳酯涂層具有極高的硬度、突出的耐化學(xué)腐蝕性和耐磨性,同時還具有優(yōu)異的耐高低溫性能、耐候性和阻燃性能。所制備的紫外光固化涂層的固化速度快、能耗低、操作簡單,并且涂膜性能優(yōu)良,具有實(shí)際應(yīng)用價(jià)值。
本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn):
一種POSS交聯(lián)聚芳酯紫外光固化防護(hù)涂層,其包括如下的組分及其質(zhì)量含量:
烯端基聚芳酯低聚物:70~99%;
八乙烯基-POSS:0.5~28%;
光引發(fā)劑:0.05~2%;
消泡劑:0.1~0.5%;
流平劑:0.1~0.5%。
在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中,上述各組分優(yōu)選質(zhì)量含量為:
烯端基聚芳酯低聚物:90~98%;
八乙烯基-POSS:1~8%;
光引發(fā)劑:0.5~1%;
消泡劑:0.1~0.5%;
流平劑:0.1~0.5%。
在POSS能夠分散好的前提下,POSS的含量越高,涂層的硬度越高。但過量的POSS往往會導(dǎo)致其產(chǎn)生聚集而不能在聚芳酯基體中形成良好的分散。因此,合適的烯端基聚芳酯低聚物和八乙烯基-POSS的質(zhì)量含量對本發(fā)明的防護(hù)涂層的性能至關(guān)重要。
優(yōu)選的,所述烯端基聚芳酯低聚物的數(shù)均分子量為1000~6000g/mol。
上述POSS交聯(lián)聚芳酯紫外光固化防護(hù)涂層的分子結(jié)構(gòu)示意圖如圖1所示。
可見,POSS作為立體交聯(lián)劑將聚芳酯低聚物交聯(lián)成一個整體的網(wǎng)絡(luò),而且POSS還同時作為無機(jī)填料,并由于其與聚芳酯分子發(fā)生了反應(yīng),因此,POSS作為無機(jī)填料的分散性很好。
在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例中,所述烯端基聚芳酯低聚物的制備方法如下:
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