[發(fā)明專利]一種測量用離子選擇電極清洗裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201611210491.8
• 申請日: 2016-12-24
• 公開（公告）號: CN106733888A
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 鄭皓天
• 申請（專利權(quán)）人: 寧夏軟件工程院有限公司
• 主分類號: B08B3/10
• 分類號: B08B3/10;B08B3/08
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種清洗裝置，尤其涉及一種測量用離子選擇電極清洗裝置。

背景技術(shù)

機(jī)械是指機(jī)器與機(jī)構(gòu)的總稱。機(jī)械就是能幫人們降低工作難度或省力的離子選擇電極裝置，像筷子、掃帚以及鑷子一類的物品都可以被稱為機(jī)械，他們是簡單機(jī)械。而復(fù)雜機(jī)械就是由兩種或兩種以上的簡單機(jī)械構(gòu)成。通常把這些比較復(fù)雜的機(jī)械叫做機(jī)器。從結(jié)構(gòu)和運(yùn)動的觀點(diǎn)來看，機(jī)構(gòu)和機(jī)器并無區(qū)別，泛稱為機(jī)械。機(jī)械的特征有：機(jī)械是一種人為的實(shí)物構(gòu)件的組合。機(jī)械各部分之間具有確定的相對運(yùn)動。故機(jī)器能轉(zhuǎn)換機(jī)械能或完成有用的機(jī)械功，是現(xiàn)代機(jī)械原理中的最基本的概念。

清洗是采用一種化學(xué)藥劑清除物體表面污垢的方法，它是借助清洗劑表面污染物或覆蓋層進(jìn)行化學(xué)轉(zhuǎn)化、溶解、剝離以達(dá)到脫脂、除銹和去污的效果。

在機(jī)械領(lǐng)域中，對工具的清洗也尤為重要，好的干凈的工具可以在工作中事半功倍，現(xiàn)有的離子選擇電極清洗裝置存在操作繁瑣，工作量大、清洗效果不好的缺點(diǎn)，使因此亟需研發(fā)一種操作簡單，工作量小、清洗效果好的工業(yè)用離子選擇電極智能清洗裝置。

發(fā)明內(nèi)容

（1）要解決的技術(shù)問題

本發(fā)明為了克服現(xiàn)有的離子選擇電極清洗裝置存在操作繁瑣，工作量大、清洗效果不好的缺點(diǎn)，本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種操作簡單，工作量小、清洗效果好的工業(yè)用離子選擇電極智能清洗裝置。

（2）技術(shù)方案

為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供了這樣一種測量用離子選擇電極清洗裝置，包括有底板、轉(zhuǎn)軸Ⅰ、皮帶輪Ⅰ、電機(jī)Ⅰ、軸承座Ⅰ、平皮帶、皮帶輪Ⅱ、右架、轉(zhuǎn)軸Ⅱ、錐形齒輪Ⅰ、滑塊、軸承座Ⅱ、轉(zhuǎn)軸Ⅲ、錐形齒輪Ⅱ、連桿Ⅰ、葉片Ⅰ、放置板、電機(jī)、連桿Ⅱ、連桿Ⅲ、左架、電機(jī)Ⅱ、軸承座Ⅲ、絲桿、螺母Ⅰ、連桿Ⅳ、螺母Ⅱ、滑軌、軸承座Ⅳ、清洗箱、清洗框和葉片Ⅱ，底板頂部從左至右依次設(shè)有左架、電機(jī)Ⅰ、軸承座Ⅰ和右架，電機(jī)Ⅰ上部設(shè)有轉(zhuǎn)軸Ⅰ，轉(zhuǎn)軸Ⅰ上端設(shè)有清洗箱，清洗箱內(nèi)下部對稱設(shè)有葉片Ⅱ，轉(zhuǎn)軸Ⅰ下部設(shè)有皮帶輪Ⅰ，軸承座Ⅰ上部設(shè)有轉(zhuǎn)軸Ⅱ，轉(zhuǎn)軸Ⅱ上端設(shè)有錐形齒輪Ⅰ，轉(zhuǎn)軸Ⅱ下部設(shè)有皮帶輪Ⅱ，皮帶輪Ⅰ和皮帶輪Ⅱ之間繞有平皮帶，右架左側(cè)上端設(shè)有軸承座Ⅱ，軸承座Ⅱ左側(cè)設(shè)有轉(zhuǎn)軸Ⅲ，轉(zhuǎn)軸Ⅲ的左端設(shè)有錐形齒輪Ⅱ，錐形齒輪Ⅰ和錐形齒輪Ⅱ嚙合，錐形齒輪Ⅱ左側(cè)設(shè)有連桿Ⅰ，連桿Ⅰ左端設(shè)有葉片Ⅰ，左架右側(cè)從上至下依次設(shè)有電機(jī)Ⅲ、軸承座Ⅲ和軸承座Ⅳ，軸承座Ⅲ和軸承座Ⅳ之間設(shè)有絲桿，絲桿的上端與電機(jī)Ⅲ連接，絲桿上設(shè)有螺母Ⅰ和螺母Ⅱ，螺母Ⅰ和螺母Ⅱ和絲桿配合，螺母Ⅰ在螺母Ⅱ的上方，螺母Ⅰ右側(cè)設(shè)有放置板，放置板前側(cè)右部設(shè)有電機(jī)Ⅱ，電機(jī)Ⅱ在清洗箱的正上方，電機(jī)Ⅱ上設(shè)有連桿Ⅱ，連桿Ⅱ另一端鉸接連接設(shè)有連桿Ⅲ，螺母Ⅱ右側(cè)設(shè)有連桿Ⅳ，連桿Ⅳ右端設(shè)有滑軌，滑軌在清洗箱的正上方，滑軌前側(cè)設(shè)有滑塊，滑塊和滑軌滑動式連接，連桿Ⅲ的另一端與滑塊鉸接連接，滑塊下部設(shè)有清洗框。

優(yōu)選地，還包括有行程開關(guān)，左架右側(cè)下部設(shè)有行程開關(guān)，行程開關(guān)在螺母Ⅱ的下方。

優(yōu)選地，底板材料為增強(qiáng)聚丙烯RPP。