[發明專利]一種具有高含量、高穩定性BMP涂層的種植體活性表面的制備方法

在審

• 申請號: 201611208550.8
• 申請日: 2016-12-23
• 公開（公告）號: CN106620853A
• 公開（公告）日: 2017-05-10
• 發明（設計）人: 黨平;郭斌;張久文;蔡俊江;彭鵬;李閃
• 申請（專利權）人: 大連三生科技發展有限公司
• 主分類號: A61L27/34
• 分類號: A61L27/34;A61L27/06;A61L27/50;A61L27/54;C23C22/64
• 代理公司: 大連東方專利代理有限責任公司21212
• 代理人: 趙淑梅

1.一種具有高含量、高穩定性BMP涂層的種植體活性表面制備方法，包括以下步驟：

(1)將鈦金屬種植體表面用200、300、600和2000目砂紙逐級打磨，清洗，在60℃烘干；

(2)用75μm TiO₂顆粒，通過噴嘴對種植體表面進行噴砂處理；

(3)將噴砂處理后的種植體置于氫氟酸與鹽酸組成的混合酸蝕劑中進行表面刻蝕處理，取出種植體超聲清洗，室溫自然干燥；

(4)表面刻蝕處理、干燥后的種植體置于60℃、5mol/L NaOH溶液孵育24-48h，用水超聲清洗后，干燥后600℃下處理1-2h；

(5)干燥處理后的種植體浸入帶正電荷的Ⅰ型膠原蛋白/BMP復合涂層溶液中，室溫放置10-30min，用蒸餾水清洗；

(6)蒸餾水清洗后的種植體浸入帶負電荷的HA涂層溶液中，室溫放置10-30min，用蒸餾水清洗；

(7)重復步驟(5)-(6)即可得到帶有不同層數涂層的種植體活性表面。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述的帶正電荷的Ⅰ型膠原蛋白/BMP復合涂層溶液按照如下方法制備得到：將Ⅰ型膠原蛋白溶解于去離子水中，用HCl調整pH值至4.0，加入NaCl溶解，再加入BMP，攪拌溶解，得復合涂層溶液，其中在所述復合涂層溶液中，Ⅰ型膠原蛋白濃度為1-2mg/mL，NaCl濃度為0.1-0.2M，BMP濃度為1-5mg/mL。

3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述的帶負電荷的HA涂層溶液按照如下方法制備得到：將透明質酸鈉和NaCl溶解于去離子水中，用HCl調整pH值至2.9，得到HA涂層溶液，其中在溶液中透明質酸鈉濃度為1-2mg/mL，NaCl的終濃度為0.1-0.2M。

4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，在步驟(2)中，所述的噴砂處理條件為：壓縮空氣壓力為0.3-0.4MPa，噴嘴離種植體表面的距離為5-10cm，噴射時間為2-10s。

5.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，在步驟(3)中，所述的混合酸蝕劑為47％的HF與38％的HCl按照體積比1:1混合的混合液。

6.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，在步驟(3)中，所述的表面刻蝕處理溫度為60℃，刻蝕處理時間為10-20min。