[發(fā)明專利]蒸鍍設(shè)備與利用此設(shè)備的蒸鍍方法

有效

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• 申請日: 2016-12-23
• 公開（公告）號: CN108004507B
• 公開（公告）日: 2020-05-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 黃智勇;林士欽;王慶鈞
• 申請（專利權(quán)）人: 財團法人工業(yè)技術(shù)研究院
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 陳小雯

1.一種蒸鍍設(shè)備，包括：

蒸鍍腔室，具有蒸鍍空間；

蒸鍍源，設(shè)置于該蒸鍍空間中的下方，該蒸鍍源適于容納蒸鍍源材料；

承載裝置，以參考軸為中心、可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置于該蒸鍍空間中的上方，且與該蒸鍍源相對，該承載裝置適于承載待鍍物并使該待鍍物位于該蒸鍍源與該承載裝置之間；以及

流體擾動裝置，適于在該蒸鍍空間中，朝向該承載裝置注入經(jīng)擾動后的流體；

其中，該流體擾動裝置包括多個噴頭，該多個噴頭以該參考軸為中心呈對稱排列設(shè)置，且該多個噴頭各設(shè)置為朝向注入方向注入該經(jīng)擾動后的流體，該注入方向與該參考軸相交一角度，使該經(jīng)擾動后的流體形成包圍于該待鍍物周邊的氣體屏障，讓該蒸鍍源材料揮發(fā)成的蒸鍍粒子在該氣體屏障下以該參考軸為中心被集中朝向該承載裝置行進，該多個噴頭的每一個與該蒸鍍源之間存在一間距。

2.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍設(shè)備，其中，該參考軸通過該蒸鍍源的設(shè)置位置，該角度為0度到15度之間，且不為0度。

3.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍設(shè)備，其中，該多個噴頭各具有至少一流道。

4.如權(quán)利要求3所述的蒸鍍設(shè)備，其中，該流道為立體螺旋狀管道。

5.如權(quán)利要求3所述的蒸鍍設(shè)備，其中，該流道為曲線形管道。

6.如權(quán)利要求3所述的蒸鍍設(shè)備，其中，該流道包括多個側(cè)壁擋件，該多個側(cè)壁擋件以連接部連接設(shè)置于該流道的內(nèi)壁，該多個側(cè)壁擋件具有朝向該注入方向的端部，該端部與該承載裝置的距離小于該連接部與該承載裝置的距離。

7.如權(quán)利要求6所述的蒸鍍設(shè)備，其中，該流道還包括立體螺旋狀擋件，適于使該多個側(cè)壁擋件位于該立體螺旋狀擋件與該內(nèi)壁之間，且該多個端部與該立體螺旋狀擋件交錯設(shè)置。

8.如權(quán)利要求3所述的蒸鍍設(shè)備，其中，該多個噴頭各具有入口部與出口部，入口部連接該流道及流體供應(yīng)源，該出口部連接于該流道且位于該噴頭相對于該入口部的另一端，該出口部較該入口部靠近該承載裝置。

9.如權(quán)利要求8所述的蒸鍍設(shè)備，其中，該多個噴頭各具有葉片，可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置于該出口部。

10.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍設(shè)備，其中，該多個噴頭各具有旋轉(zhuǎn)軸。

11.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍設(shè)備，其中，該流體擾動裝置具有流體加熱元件，適于在注入該蒸鍍空間熱該經(jīng)擾動后的流體。

12.如權(quán)利要求11所述的蒸鍍設(shè)備，其中，該流體加熱元件為加熱環(huán)，套設(shè)于該多個噴頭的每一個，適于在注入該蒸鍍空間前加熱該經(jīng)擾動后的流體。

13.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍設(shè)備，其中，該承載裝置適于以該參考軸為中心旋轉(zhuǎn)，使該待鍍物沿環(huán)狀路徑移動。

14.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍設(shè)備，其中，該蒸鍍源包括坩堝，該坩堝用以容納該蒸鍍源材料，適于使該蒸鍍源材料揮發(fā)成蒸鍍粒子而鍍于該待鍍物。

15.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍設(shè)備，其中，該蒸鍍源包括加熱部，用以加熱該蒸鍍源材料。

16.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍設(shè)備，其中，該經(jīng)擾動后的流體為鈍氣。