[發明專利]光致抗蝕劑組合物、包括光致抗蝕劑組合物的經涂布襯底和形成電子裝置的方法

在審

• 申請號: 201611196014.0
• 申請日: 2016-12-21
• 公開（公告）號: CN106933030A
• 公開（公告）日: 2017-07-07
• 發明（設計）人: E·阿卡德;W·威廉姆斯三世;J·F·卡梅倫
• 申請（專利權）人: 羅門哈斯電子材料有限責任公司
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/09
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司31100
• 代理人: 陳哲鋒,胡嘉倩

1.一種光致抗蝕劑組合物，其包含：

酸敏性聚合物，

溶劑，和

具有式(I)的光酸產生劑化合物：

其中：

EWG為吸電子基團；

Y為單鍵或鍵聯基團；

R為氫、直鏈或分支鏈C_1-20烷基、直鏈或分支鏈C_2-20烯基、單環或多環C_3-20環烷基、單環或多環C_3-20環烯基、單環或多環C_3-20雜環烷基、單環或多環C_3-20雜環烯基、單環或多環C_6-20芳基、單環或多環C₁-20雜芳基，除了氫以外的其中的每一個經取代或未經取代，其中當R包含可聚合基團時，所述光酸產生劑為酸敏性聚合物的聚合單元；且

M⁺為有機陽離子。

2.根據權利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述光酸產生劑化合物具有式(II)或(III)：

其中：

X¹、X²、X³和X⁴各自獨立地為吸電子基團；

X⁵和X⁶各自獨立地為選自C(CN)₂、C(NO₂)₂、C(COR²⁷)₂、C(CO₂R²⁸)₂、C(SO₂R²⁹)₂和C(R_f)₂的吸電子基團，其中R_f為C₁-C₃₀氟烷基；

Z¹和Z²各自獨立地為氫、直鏈或分支鏈C_1-50烷基、單環或多環C_3-50環烷基、單環或多環C_3-50雜環烷基、單環或多環C_6-50芳基、單環或多環C_5-20雜芳基或其組合，其中基團Z¹和Z²任選地彼此連接形成環；

Y、R和M⁺與權利要求1中相同；且

每個表示部分雙鍵。

3.根據權利要求2所述的光致抗蝕劑組合物，其中在式(III)中：

EWG為CN；

R為多環C_3-20環烷基；

Y為單鍵、-C(R³⁰)₂-、-N(R³¹)-、-O-、-S-、-S(＝O)₂-、-(C＝O)-或其組合，其中每個R³⁰和R³¹獨立地為氫或C_1-6烷基；且

M⁺為有機锍陽離子或有機碘陽離子。

4.根據權利要求2和3中任一項所述的光致抗蝕劑組合物，其中在式(III)中：

X⁵和X⁶各自為C(CN)₂；

R為氫；且

Y為單鍵。