[發(fā)明專利]一種掩膜版的焊接方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611194102.7 | 申請日: | 2016-12-21 |
| 公開(公告)號: | CN106583958B | 公開(公告)日: | 2019-01-15 |
| 發(fā)明(設計)人: | 王紅英;冉應剛;吳俊雄;柯賢軍;蘇君海;李建華 | 申請(專利權)人: | 信利(惠州)智能顯示有限公司 |
| 主分類號: | B23K31/02 | 分類號: | B23K31/02 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102 | 代理人: | 陳衛(wèi);禹小明 |
| 地址: | 516029 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 掩膜版 焊接 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種掩膜版的焊接方法,根據(jù)掩膜版厚度確定焊點間距,所述的確定焊接間距的步驟包括:S1 測量掩膜版的厚度T;S2 計算焊點的高度H,H=T+△,△為15um?20um;S3 計算焊點間距D,D=λH,λ為35?50。本發(fā)明通過確定焊點的間距控制褶皺高度,減少了大量的測試時間;避免了現(xiàn)有技術中做測試導致的掩膜版的浪費;方法簡單易于實現(xiàn);褶皺高度的控制精度高,提升了產(chǎn)品的生產(chǎn)良率。
技術領域
本發(fā)明涉及顯示技術領域,特別涉及一種掩膜版的焊接方法。
背景技術
蒸鍍掩膜版(Evaporation mask),也稱為掩模版,是一種蒸鍍有機材料時,遮蔽部分有機材料,從而形成需要的幾何圖形,其上具有對于蒸鍍有機材料時遮蔽部分有機材料后,形成至少一個幾何圖形,可實現(xiàn)有選擇地遮擋有機材料到玻璃基板上,并最終在玻璃基板上形成相應的圖案。
在焊接掩膜版時,由于焊接導致的掩膜版褶皺的高度和范圍,會影響掩膜板與蒸鍍玻璃基板之間的貼合,進而影響產(chǎn)品的良率。目前在實際生產(chǎn)過程中,通過大量的測試找到焊接過程中所需要的合適的張網(wǎng)力、焊接能量、焊點高度、焊點間距和焊點的排布順序,通過確定以上的各個參數(shù),從而確定合適的掩膜版焊接方法,控制褶皺高度。但是該方法所需的測試時間長,測試數(shù)量多,且大量的測試也造成物料的浪費。
發(fā)明內(nèi)容
基于現(xiàn)有技術中存在的問題,本發(fā)明提供一種通過確定焊點的間距從而確定焊點的排布順序的、減少測試時間的、節(jié)省物料的、控制掩膜版褶皺高度的掩膜版焊接方法。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種掩膜版的焊接方法,第一方案為:包括確定焊點間距,所述的確定焊接間距的步驟包括:
S1 測量掩膜版的厚度T;
S2 計算焊點的高度H,H=T+△,△為15um-20um;
S3 計算焊點間距D,D=λH,λ為35-50;計算焊接引起的褶皺的延伸長度L,L≤130/3*H,當焊點間距在褶皺的最大延伸長度左右時,褶皺剛好在間距內(nèi)進行延伸。
掩膜版焊接時,在焊點周圍會出現(xiàn)褶皺并向四周延伸,當掩膜版的焊點間距設置得過近時,兩個焊點產(chǎn)生的褶皺會疊加,使得掩膜版的厚度增加,導致焊接過的掩膜版表面不均勻;當焊點間距設置得過遠時,兩個焊點間會出現(xiàn)沒有褶皺的空白段,也會導致焊接過的掩膜版表面不均勻;當褶皺剛好在焊點間距內(nèi)延伸完成的時候,該焊接間距所達到的效果最佳,整個掩膜版表面的均勻度也最合適。
作為第一方案的優(yōu)選方案,λ為35-44或λ為43-50。
作為第一方案的優(yōu)選方案,λ為43-44。
作為第一方案的優(yōu)選方案,λ為130/3,當掩膜版厚度T與△相同時,λ取該值,焊接時所產(chǎn)生的褶皺延伸長度最大,將焊點間距選取在褶皺的最大延伸長度左右,焊點所產(chǎn)生的褶皺剛好可以在焊點間距內(nèi)延展完成,沒有疊加,掩膜版的平整度好。
作為上述方案的優(yōu)選方案,根據(jù)焊點間距確定焊點的排列順序。
作為第一方案的優(yōu)選方案,從掩膜版中心往掩膜版邊緣進行焊接,若先焊接邊緣的焊點,波浪的起伏可能會向中間集中,導致中間焊點的高度偏高,最終導致中間的褶皺較高。若先焊接中間,波浪會往邊緣延伸,因為邊緣沒有阻礙,褶皺會在邊緣釋放,最終邊緣的褶皺不會太高。
本發(fā)明實現(xiàn)的有益效果主要有以下幾點:
1.減少了大量的測試時間;
2.避免了現(xiàn)有技術中做測試導致的掩膜版的浪費;
3.通過確定焊點的間距控制褶皺高度,方法簡單易于實現(xiàn);
4.褶皺高度的控制精度高,提升了產(chǎn)品的生產(chǎn)良率。
具體實施方式
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