[發明專利]兜唇石斛化學小分子成分的相關特征指紋圖譜的建立方法有效
| 申請號: | 201611190886.6 | 申請日: | 2016-12-20 |
| 公開(公告)號: | CN108205039B | 公開(公告)日: | 2020-12-25 |
| 發明(設計)人: | 趙田 | 申請(專利權)人: | 北京藍標一成科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N30/86 | 分類號: | G01N30/86;G01N30/06;G01N30/74 |
| 代理公司: | 北京領科知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11690 | 代理人: | 張丹 |
| 地址: | 100176 北京市大興區北京經濟技術*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 石斛 化學 分子 成分 相關 特征 指紋 圖譜 建立 方法 | ||
1.一種兜唇石斛的化學小分子成分的相關特征指紋圖譜的建立方法,其特征在于,所述相關特征指紋圖譜的建立方法包括:
1)對樣本容量為n的樣本分別進行色譜檢測,獲取以化學小分子成分夏佛托苷和/或柚皮素作為參照成分的檢測數據,所述n為不小于10的整數;
2)對樣本分別進行指紋圖譜檢測,獲取兜唇石斛的全化學成分的指紋圖譜峰面積值;
3)以色譜數據中夏佛托苷和/或柚皮素的成分含量值作為響應變量,將指紋圖譜中其它成分的峰面積值作為自變量建立分析模型,進行主成分提取和回歸計算,建立小分子成分與指紋圖譜線性回歸模型,并得到回歸方程;
4)通過變量相關系數指標(Correlation Coefficient)表征自變量對回歸建模的貢獻程度,對應的相關系數越大的自變量的重要程度越大,獲得和小分子成分密切相關的指紋圖譜特征峰群,建立化學小分子成分的相關特征指紋圖譜;
所述步驟3)中所述的建立分析模型包括以下步驟:
a)當色譜數據呈現超高維情形時,采用SIS(Sure Independence Screening)方法將超高維降到d維;其中,d=n或者
b)在SIS方法降維之后,采用SCAD(Smooth Clipped Absolute Deviation)方法篩選變量。
2.如權利要求1所述的化學小分子成分的相關特征指紋圖譜的建立方法,其特征在于,步驟1)所述的色譜檢測還包括兜唇石斛樣品處理方法:
所述樣品處理方法包括:
精密稱取兜唇石斛粉末,置100ml容量瓶中,每1g樣品精密加體積比為75:25的甲醇-水50ml,以250W功率、40kHz頻率超聲處理30分鐘,冷卻后過濾,將濾液旋蒸濃縮至干,每1g兜唇石斛粉末對應地用5ml體積比為75:25的甲醇-水溶解,上清液過0.45μm微孔濾膜,取續濾液,即得兜唇石斛的小分子成分含量測定樣品。
3.如權利要求1或2所述的化學小分子成分的相關特征指紋圖譜的建立方法,其特征在于,步驟1)所述的色譜檢測的檢測條件包括:
含量測定色譜條件:Grace Allitima C18色譜柱;流動相采用二元梯度洗脫系統,A相:0.2%醋酸-水,B相:乙腈;以波長290nm測定柚皮素,以波長334nm測定夏佛托苷,參比波長500nm,柱溫30℃;流速1.0mL/min,進樣量20μL;洗脫梯度為:
步驟2)所述的指紋圖譜的檢測條件包括:
指紋圖譜色譜條件:Grace Allitima C18色譜柱,250mm×4.6mm,5μm;流動相:A相:0.4%乙酸+20mmol/L醋酸銨水溶液,B相:乙腈;梯度洗脫:0~12min:2%~15%B相,12~35min:15%~24%B相,35~45min:24%~36%B相,45~60min:36%~75%B相,60~80min:75%~95%B相;流速1.0mL/min;柱溫30℃;進樣量20μL;檢測波長280nm。
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