[發明專利]一種單晶樣片腐蝕機

在審

• 申請號: 201611190741.6
• 申請日: 2016-12-20
• 公開（公告）號: CN108203845A
• 公開（公告）日: 2018-06-26
• 發明（設計）人: 邊永智;寧永鐸;程鳳伶;張亮;蔡麗艷
• 申請（專利權）人: 有研半導體材料有限公司
• 主分類號: C30B35/00
• 分類號: C30B35/00;C30B33/10;G01N1/32
• 代理公司: 北京北新智誠知識產權代理有限公司 11100
• 代理人: 劉秀青;熊國裕

1.一種單晶樣片腐蝕機，其特征在于，包括機械手、腐蝕工藝槽、清洗水槽；其中，機械手上設有水平移動機構、垂直移動機構和吸盤轉動機構；腐蝕工藝槽由帶有通孔的腐蝕平臺、帶有控溫盤管的混液槽、腐蝕劑溢流循環系統、設置在腐蝕工藝槽周圍的排風系統組成。

2.如權利要求1所述的單晶樣片腐蝕機，其特征在于：所述水平移動機構和垂直移動機構由電機與齒條組成。

3.如權利要求1或2所述的單晶樣片腐蝕機，其特征在于：所述垂直移動機構可上下移動，工作時將樣片穩定在腐蝕平臺上方，與平臺間距1-10mm，接觸到腐蝕劑液面。

4.如權利要求1所述的單晶樣片腐蝕機，其特征在于：所述吸盤旋轉機構運行時，旋轉速度從0-50rpm可調。

5.如權利要求1所述的單晶樣片腐蝕機，其特征在于：所述腐蝕平臺上開有通孔列陣，通孔直徑為2-10mm。

6.如權利要求1所述的單晶樣片腐蝕機，其特征在于：所述腐蝕工藝槽四周設有排風框架，框架設有排風管道與廠務排風相連，框架內側開有排風孔。

7.如權利要求1所述的單晶樣片腐蝕機，其特征在于：所述腐蝕工藝槽下方設有混液槽，控溫槽內部設有控溫盤管，控溫槽與上層腐蝕工藝槽由溢流回流管相連，控溫槽通過管道、循環泵與腐蝕平臺相連。

8.如權利要求1所述的單晶樣片腐蝕機，其特征在于：機體與腐蝕劑接觸部位材質為聚乙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯或襯附聚四氟乙烯不銹鋼；吸盤旋轉機構末端吸盤材質為含氟橡膠或聚四氟乙烯。

9.如權利要求1所述的單晶樣片腐蝕機，其特征在于：所述單晶樣片腐蝕機適用的腐蝕劑包括氫氧化鈉、氫氧化鉀、硝酸氫氟酸混合酸、硅材料擇優腐蝕劑。