[發(fā)明專利]功能性膜的制造方法以及功能性膜的制造裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201611190397.0 | 申請(qǐng)日: | 2016-12-20 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN106953057B | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-12-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王劍;渡邊耕一郎 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 住友化學(xué)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01M2/16 | 分類號(hào): | H01M2/16;H01M2/14;H01M10/058;H01M10/0525 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 劉文海 |
| 地址: | 日本國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 功能 制造 方法 以及 裝置 | ||
1.一種鋰離子二次電池用隔離膜的制造方法,將膜依次向包括膜的檢查裝置在內(nèi)的多個(gè)處理裝置搬運(yùn),其特征在于,
在從規(guī)定的處理裝置至下一個(gè)處理裝置即所述檢查裝置的搬運(yùn)中,使用至少兩個(gè)擴(kuò)展輥,
在所述規(guī)定的處理裝置與所述檢查裝置之間不存在其他的處理裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鋰離子二次電池用隔離膜的制造方法,其特征在于,
在從抽出膜的抽出裝置至下一個(gè)處理裝置即膜檢驗(yàn)裝置的搬運(yùn)中,使用一個(gè)以上的擴(kuò)展輥。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鋰離子二次電池用隔離膜的制造方法,其特征在于,
在從所述膜檢驗(yàn)裝置至涂裝裝置的搬運(yùn)中,使用一個(gè)以上的擴(kuò)展輥。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的鋰離子二次電池用隔離膜的制造方法,其特征在于,
在從所述涂裝裝置至所述規(guī)定的處理裝置的搬運(yùn)中,使用一個(gè)以上的擴(kuò)展輥。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的鋰離子二次電池用隔離膜的制造方法,其特征在于,
所述規(guī)定的處理裝置是涂裝膜的干燥裝置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的鋰離子二次電池用隔離膜的制造方法,其特征在于,
所述兩個(gè)擴(kuò)展輥包括彎曲輥。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的鋰離子二次電池用隔離膜的制造方法,其特征在于,
所述兩個(gè)擴(kuò)展輥包括不彎曲的直線狀輥。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的鋰離子二次電池用隔離膜的制造方法,其特征在于,
所述兩個(gè)擴(kuò)展輥的表面呈不存在凹凸的曲面狀。
9.根據(jù)權(quán)利要求1~4中任一項(xiàng)所述的鋰離子二次電池用隔離膜的制造方法,其特征在于,
所述兩個(gè)擴(kuò)展輥的形狀以及表面材質(zhì)的至少一方不同。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的鋰離子二次電池用隔離膜的制造方法,其特征在于,
所述兩個(gè)擴(kuò)展輥的形狀不同。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的鋰離子二次電池用隔離膜的制造方法,其特征在于,
在從所述兩個(gè)擴(kuò)展輥中的一個(gè)擴(kuò)展輥朝向另一個(gè)擴(kuò)展輥的搬運(yùn)路線上,配置有搬運(yùn)輥,且該搬運(yùn)輥不是擴(kuò)展輥。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的鋰離子二次電池用隔離膜的制造方法,其特征在于,
所述鋰離子二次電池用隔離膜是在聚烯烴多孔膜上形成有多孔層而成的層疊多孔膜。
13.一種鋰離子二次電池用隔離膜的制造裝置,其將膜依次向包括膜的檢查裝置在內(nèi)的多個(gè)處理裝置搬運(yùn),其特征在于,
在從規(guī)定的處理裝置至下一個(gè)處理裝置即所述檢查裝置的搬運(yùn)中,使用至少兩個(gè)擴(kuò)展輥,
在所述規(guī)定的處理裝置與所述檢查裝置之間不存在其他的處理裝置。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于住友化學(xué)株式會(huì)社,未經(jīng)住友化學(xué)株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201611190397.0/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 氫燃料制造系統(tǒng)、氫燃料制造方法以及氫燃料制造程序
- 單元控制系統(tǒng)、生產(chǎn)系統(tǒng)以及控制方法
- 制造裝置及制造方法以及制造系統(tǒng)
- 一種三相異步電動(dòng)機(jī)制造工藝方法
- 制造設(shè)備、制造裝置和制造方法
- 用于監(jiān)測(cè)光學(xué)鏡片制造過(guò)程的方法
- 產(chǎn)品的制造系統(tǒng)、惡意軟件檢測(cè)系統(tǒng)、產(chǎn)品的制造方法以及惡意軟件檢測(cè)方法
- 一種面向制造服務(wù)的制造能力評(píng)估方法
- 一種基于云制造資源的制造能力建模方法
- 制造設(shè)備系統(tǒng)、制造設(shè)備以及制造方法
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 接收裝置以及接收方法、以及程序
- 凈水濾芯以及凈水裝置、以及洗漱臺(tái)
- 隱匿檢索系統(tǒng)以及公開(kāi)參數(shù)生成裝置以及加密裝置以及用戶秘密密鑰生成裝置以及查詢發(fā)布裝置以及檢索裝置以及計(jì)算機(jī)程序以及隱匿檢索方法以及公開(kāi)參數(shù)生成方法以及加密方法以及用戶秘密密鑰生成方法以及查詢發(fā)布方法以及檢索方法
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 圖片顯示方法以及裝置以及移動(dòng)終端
- ENB以及UEUL發(fā)送以及接收的方法
- X射線探測(cè)方法以及裝置以及系統(tǒng)
- 圖書信息錄入方法以及系統(tǒng)以及書架
- 護(hù)耳器以及口罩以及眼鏡





