[發(fā)明專利]減小三維堆疊中犧牲層在化學(xué)機(jī)械拋光中凹陷變形的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611189122.5 | 申請日： | 2016-12-21 |
| 公開（公告）號： | CN106672892A | 公開（公告）日： | 2017-05-17 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 錢可強(qiáng);趙洪元;郁元衛(wèi);朱健;禹淼;夏燕 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國電子科技集團(tuán)公司第五十五研究所 |
| 主分類號： | B81B7/02 | 分類號： | B81B7/02;B81C1/00 |
| 代理公司： | 南京君陶專利商標(biāo)代理有限公司32215 | 代理人： | 沈根水 |
| 地址： | 210016 *** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 減小 三維 堆疊 犧牲 化學(xué) 機(jī)械拋光 凹陷 變形 方法 | ||
【說明書】：
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