[發明專利]一種投影圖構建方法及裝置

有效

• 申請號: 201611187138.2
• 申請日: 2016-12-20
• 公開（公告）號: CN106780310B
• 公開（公告）日: 2020-11-24
• 發明（設計）人: 諸加丹;王濤;劉鴻彬
• 申請（專利權）人: 北京奇藝世紀科技有限公司
• 主分類號: G06T3/00
• 分類號: G06T3/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 王寶筠

1.一種投影圖構建方法，其特征在于，包括：

采用柱面等面積投影模型對equirectangular全景圖像進行投影，得到柱面等面積投影圖，所述柱面等面積投影圖相比于所述equirectangular全景圖像，兩極處的紋理在二維坐標系下y軸方向被進一步壓縮，保證兩級處的紋理和赤道附近的紋理的面積一樣；

獲取所述柱面等面積投影圖中各個像素點的二維坐標；

對獲取到的柱面等面積投影圖中各個像素點的二維坐標進行坐標系轉換，得到所述獲取到的柱面等面積投影圖中各個像素點在所述equirectangular全景圖像中的二維坐標；

利用所述equirectangular全景圖像中每個像素點的顏色信息和所述獲取到的柱面等面積投影圖中各個像素點在所述equirectangular全景圖像中的二維坐標，采用插值算法，對所述柱面等面積投影圖進行像素插值，生成柱面等面積投影變換后的全景圖。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述對獲取到的柱面等面積投影圖中各個像素點的二維坐標進行坐標系轉換，得到所述獲取到的柱面等面積投影圖中各個像素點在所述equirectangular全景圖像中的二維坐標，包括：

利用公式對獲取到的柱面等面積投影圖中各個像素點的二維坐標進行坐標系轉換，得到所述獲取到的柱面等面積投影圖中各個像素點在所述equirectangular全景圖像中的二維坐標；

其中，x是像素點在所述equirectangular全景圖像中的二維橫坐標，y是像素點在所述equirectangular全景圖像中的二維縱坐標，u為像素點在柱面等面積投影圖中的橫坐標，v為像素點在柱面等面積投影圖中的縱坐標，m、n分別為所述equirectangular全景圖像的高和寬，π為圓周率。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，利用所述equirectangular全景圖像中每個像素點的顏色信息和所述獲取到的柱面等面積投影圖中各個像素點在所述equirectangular全景圖像中的二維坐標，采用插值算法，對所述柱面等面積投影圖進行像素插值，生成柱面等面積投影變換后的全景圖包括：

利用所述equirectangular全景圖像中每個像素點的顏色信息和所述獲取到的柱面等面積投影圖中各個像素點在所述equirectangular全景圖像中的二維坐標，采用雙線性插值算法，對所述柱面等面積投影圖進行像素插值，生成柱面等面積投影變換后的全景圖。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，利用所述equirectangular全景圖像中每個像素點的顏色信息和所述獲取到的柱面等面積投影圖中各個像素點在所述equirectangular全景圖像中的二維坐標，采用插值算法，對所述柱面等面積投影圖進行像素插值，生成柱面等面積投影變換后的全景圖包括：

利用所述equirectangular全景圖像中每個像素點的顏色信息和所述獲取到的柱面等面積投影圖中各個像素點在所述equirectangular全景圖像中的二維坐標，采用樣板條插值算法，對所述柱面等面積投影圖進行像素插值，生成柱面等面積投影變換后的全景圖。

5.一種投影圖構建裝置，其特征在于，包括：

投影模塊，用于采用柱面等面積投影模型對equirectangular全景圖像進行投影，得到柱面等面積投影圖，所述柱面等面積投影圖相比于所述equirectangular全景圖像，兩極處的紋理在二維坐標系下y軸方向被進一步壓縮，保證兩級處的紋理和赤道附近的紋理的面積一樣；

第一獲取模塊，用于獲取所述柱面等面積投影圖中各個像素點的二維坐標；

轉換模塊，用于對獲取到的柱面等面積投影圖中各個像素點的二維坐標進行坐標系轉換，得到所述獲取到的柱面等面積投影圖中各個像素點在所述equirectangular全景圖像中的二維坐標；

第一生成模塊，用于利用所述equirectangular全景圖像中每個像素點的顏色信息和所述獲取到的柱面等面積投影圖中各個像素點在所述equirectangular全景圖像中的二維坐標，對所述柱面等面積投影圖進行像素插值，生成柱面等面積投影變換后的全景圖。