[發明專利]氣體間歇噴射量測量裝置及氣體間歇噴射量測量系統

有效

• 申請號: 201611186168.1
• 申請日: 2016-12-20
• 公開（公告）號: CN106762309B
• 公開（公告）日: 2019-01-04
• 發明（設計）人: 陳飛;賴林;彭憶強;趙玲
• 申請（專利權）人: 西華大學
• 主分類號: F02M65/00
• 分類號: F02M65/00
• 代理公司: 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙) 11371
• 代理人: 曹桓

1.一種氣體間歇噴射量測量裝置，其特征在于，包括安裝架、底座、間歇式氣體噴嘴、第一緩沖罐和第二緩沖罐，所述安裝架設置于所述底座，所述底座的底部設置有滑輪，所述第一緩沖罐和所述第二緩沖罐分別設置于所述安裝架，所述第一緩沖罐設置有第一進氣口和第一出氣口，所述第二緩沖罐設置有第二進氣口和第二出氣口，所述間歇式氣體噴嘴通過進氣管道與所述第一進氣口連通，所述第一出氣口和所述第二進氣口之間通過連通管道連通，所述連通管道設置有第一節流閥，所述第二出氣口設置有出氣管道，所述出氣管道依次設置有第二節流閥和質量流量計，所述第二節流閥設置于所述第二出氣口和所述質量流量計之間；所述第一進氣口設置有過濾網，所述第一緩沖罐設置有第一氣壓計，所述第二緩沖罐設置有第二氣壓計。

2.根據權利要求1所述的氣體間歇噴射量測量裝置，其特征在于，所述連通管道包括緩沖管道，所述第二節流閥設置于所述緩沖管道。

3.根據權利要求2所述的氣體間歇噴射量測量裝置，其特征在于，所述緩沖管道呈“U”字形，所述緩沖管道的兩端分別與所述連通管道連通。

4.根據權利要求1所述的氣體間歇噴射量測量裝置，其特征在于，所述進氣管道為高壓穩定氣源輸入管道。

5.根據權利要求4所述的氣體間歇噴射量測量裝置，其特征在于，所述氣源輸入管道設置有氣體噴射器，所述氣體噴射器設置有所述間歇式氣體噴嘴。

6.根據權利要求4所述的氣體間歇噴射量測量裝置，其特征在于，所述氣源輸入管道彎折呈“L”字形，所述氣源輸入管道與所述第一進氣口連通。

7.根據權利要求6所述的氣體間歇噴射量測量裝置，其特征在于，所述第一進氣口設置于所述第一緩沖罐的底部，所述第二出氣口設置于所述第二緩沖罐的頂端。

8.根據權利要求1所述的氣體間歇噴射量測量裝置，其特征在于，所述第一緩沖罐和所述第二緩沖罐分別為穩壓罐。

9.根據權利要求1所述的氣體間歇噴射量測量裝置，其特征在于，所述第一緩沖罐的內部設置有由橡膠制成的軟質內罐，所述軟質內罐與所述第一緩沖罐之間設置有間隙。

10.一種氣體間歇噴射量測量系統，其特征在于，包括高壓穩定氣體輸入裝置和權利要求1至9中任意一項所述的氣體間歇噴射量測量裝置，所述高壓穩定氣體輸入裝置與所述間歇式氣體噴嘴連通。