[發明專利]一種基于外置耦合光柵諧振腔的高精度測量裝置

有效

• 申請號: 201611183700.4
• 申請日: 2016-12-20
• 公開（公告）號: CN106595484B
• 公開（公告）日: 2018-11-23
• 發明（設計）人: 郭龑強;姬玉林;彭春生;郭曉敏;李璞
• 申請（專利權）人: 太原理工大學
• 主分類號: G01B11/00
• 分類號: G01B11/00
• 代理公司: 太原科衛專利事務所(普通合伙) 14100
• 代理人: 朱源;王勇

1.一種基于外置耦合光柵諧振腔的高精度測量裝置，其特征在于：包括光源（1）、第一光纖（2）、光學光譜分析儀（3）、第二光纖（4）、納米錐形光學光纖（5）、外置耦合光柵（6）；

其中，納米錐形光學光纖（5）的一端通過第一光纖（2）與光源（1）的輸出端連接，另一端通過第二光纖（4）與光學光譜分析儀（3）的輸入端連接；外置耦合光柵（6）水平鑲嵌于納米錐形光學光纖（5）的下側，且外置耦合光柵（6）的中心光腔對應于納米錐形光學光纖（5）的腰部中央；

所述外置耦合光柵（6）包括基底、第一外置耦合光柵（9）、第二外置耦合光柵（10）、第三外置耦合光柵（11）、第四外置耦合光柵（12）、第五外置耦合光柵（13）；

其中，第一外置耦合光柵（9）、第二外置耦合光柵（10）、第三外置耦合光柵（11）、第四外置耦合光柵（12）、第五外置耦合光柵（13）由左向右依次排列于基底的上表面中央；

第一外置耦合光柵（9）為無缺陷的光柵；第二外置耦合光柵（10）、第三外置耦合光柵（11）、第四外置耦合光柵（12）、第五外置耦合光柵（13）均為有缺陷的光柵；

基底的長度（14）為15mm、寬度（15）為12mm、厚度（16）為2mm；

第一外置耦合光柵（9）的狹板寬度（17）為50nm、光柵周期（18）為330nm、支撐板寬度（19）為0.25mm、光柵長度（20）為1mm、凹槽寬度（21）為305nm、凹槽深度（22）為2μm、狹板數（23）為300；

第二外置耦合光柵（10）的狹板寬度（24）為50nm、光柵周期（25）為340nm、支撐板寬度（26）為0.25mm、光柵長度（27）為1mm、凹槽寬度（28）為510nm、凹槽深度（29）為2μm、左部狹板數（30）為75、右部狹板數（31）為75；

第三外置耦合光柵（11）的狹板寬度（32）為50nm、光柵周期（33）為300nm、支撐板寬度（34）為0.25mm、光柵長度（35）為1mm、凹槽寬度（36）為450nm、凹槽深度（37）為2μm、左部狹板數（38）為100、右部狹板數（39）為100；

第四外置耦合光柵（12）的狹板寬度（40）為50nm、光柵周期（41）為340nm、支撐板寬度（42）為0.25mm、光柵長度（43）為1mm、凹槽寬度（44）為510nm、凹槽深度（45）為2μm、左部狹板數（46）為125、右部狹板數（47）為125；

第五外置耦合光柵（13）的狹板寬度（48）為50nm、光柵周期（49）為320nm、支撐板寬度（50）為0.25mm、光柵長度（51）為1mm、凹槽寬度（52）為495nm、凹槽深度（53）為2μm、左部狹板數（54）為165、右部狹板數（55）為165。

2.根據權利要求1所述的一種基于外置耦合光柵諧振腔的高精度測量裝置，其特征在于：所述基底為石英基底；所述第一外置耦合光柵（9）、第二外置耦合光柵（10）、第三外置耦合光柵（11）、第四外置耦合光柵（12）、第五外置耦合光柵（13）均為二氧化硅材料。