[發明專利]一種計算過渡金屬氧化物能帶結構的方法在審
| 申請號： | 201611183029.3 | 申請日： | 2016-12-20 |
| 公開（公告）號： | CN106777988A | 公開（公告）日： | 2017-05-31 |
| 發明（設計）人： | 王前進;譚秋紅;劉應開 | 申請（專利權）人： | 云南師范大學 |
| 主分類號： | G06F19/00 | 分類號： | G06F19/00 |
| 代理公司： | 云南派特律師事務所53110 | 代理人： | 葉健 |
| 地址： | 650500 云南省昆*** | 國省代碼： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 計算 過渡 金屬 氧化物 能帶 結構 方法 | ||
1.一種計算過渡金屬氧化物能帶結構的方法，包括如下步驟：
（1）建立晶體模型
根據晶體所屬的空間群、晶格常數，原子坐標建立晶體的結構模型；
（2）參數及結構優化
a.根據上述晶體的空間群、晶格常數、原子坐標建立Quantum-ESPRESSO軟件的輸入文件，用XCRYSDEN可視化軟件查看所建結構正確與否;
b.利用PWGUI圖形界面對輸入文件的各參數進行設置，選取合適的贗勢;
c.對截斷能(ecutwfc)及K點(K_POINTS)參數進行收斂測試，選取合適的截斷能和K點，并優化晶格參數;
（3）電子結構計算
a.電子的自洽計算：利用步驟（2）優化后的晶格常數、截斷能及K點參數設置lda_plus_u = .ture.用來衡量各元素的U值作用，對氧和過渡金屬分別設定一定的U值，其中氧衡量的是2p電子相互作用，過渡金屬衡量的是3d電子的相互作用，建好自洽輸入文件，之后用pw.x執行自洽計算；
b.非自洽計算：該輸入文件與自洽輸入文件不同之處為calculation須設置為'bands'，同時設置nbnd用來設置計算能帶的數目，設置K_POINTS高對稱點以及之間的K點，其中高對稱點的選取可借助于XCRYSDEN軟件，之后用pw.x執行非自洽計算；
c.利用bands.x計算出K點及對應的本征值；
d.對得到的K點及本征值進行處理，可編程處理后用origin軟件或用Quantum-ESPRESSO自帶的plotband.x后處理程序進行繪圖。
（4）重復步驟（3），根據實驗帶隙的大小及3d態的能量位置尋找合適的U值，并做出其對應的能帶結構圖。
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