[發(fā)明專利]一種提高ZnO透明導(dǎo)電薄膜附著力的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611180038.7 | 申請日: | 2016-12-19 |
| 公開(公告)號: | CN106756799B | 公開(公告)日: | 2020-10-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 龔麗;劉云珍 | 申請(專利權(quán))人: | 長沙理工大學(xué) |
| 主分類號: | C23C14/20 | 分類號: | C23C14/20;C23C14/35;C23C14/08;C23C28/04;C23C18/12;H01B1/08 |
| 代理公司: | 長沙星耀專利事務(wù)所(普通合伙) 43205 | 代理人: | 姜芳蕊 |
| 地址: | 410114 湖南省*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 提高 zno 透明 導(dǎo)電 薄膜 附著力 方法 | ||
1.一種提高ZnO透明導(dǎo)電薄膜附著力的方法,其特征在于,分別利用射頻磁控濺射技術(shù)和溶膠凝膠法在有機(jī)聚合物襯底和ZnO薄膜之間涂覆MgO薄膜和納米二氧化鈦和碳納米管的混合溶膠薄膜,包括以下步驟:
S1、將摻有Ga2O3和Al2O3粉末的ZnO陶瓷靶為靶材,室溫下在有機(jī)聚合物襯底上沉積一層ZnO透明導(dǎo)電薄膜;
S2、利用射頻磁控濺射技術(shù),將MgO均勻濺射在有機(jī)聚合物襯底和ZnO薄膜之間,形成厚度為0.05~0.1μm的鍍膜B;
S3、以納米二氧化鈦和碳納米管的混合溶膠為原料在步驟S2中所得的鍍膜B的表面進(jìn)行涂膜處理,在78~92℃的環(huán)境下,干燥0.3~5h,形成厚度為0.01~0.1μm的鍍膜C,即得。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種提高ZnO透明導(dǎo)電薄膜附著力的方法,其特征在于,所述步驟S1中Ga2O3和Al2O3粉末的質(zhì)量比為0.88~1.12:3.2~5。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種提高ZnO透明導(dǎo)電薄膜附著力的方法,其特征在于,所述步驟S1中的有機(jī)聚合物為聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酩、有機(jī)玻璃或聚萘二甲酸乙二醇酯中的一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種提高ZnO透明導(dǎo)電薄膜附著力的方法,其特征在于,所述步驟S2中MgO的純度為99.99%以上的MgO。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種提高ZnO透明導(dǎo)電薄膜附著力的方法,其特征在于,所述步驟S2中射頻磁控濺射技術(shù)工藝參數(shù)為:襯底溫度為室溫,真空度為3.5×10-3Pa~5.8×10-3Pa,壓強(qiáng)為0.1~3.0Pa,濺射功率為150~360W,濺射時間為1~100min,靶材與襯底之間的距離保持為5~15cm,整個過程中保證有質(zhì)量比為1~9:0~1的純氬氣和純氧氣的混合氣體通入。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種提高ZnO透明導(dǎo)電薄膜附著力的方法,其特征在于,所述步驟S3中納米二氧化鈦和碳納米管的混合溶膠的制備方法為:將質(zhì)量比為3.1~4.3:1~1.2的納米二氧化鈦和碳納米管溶于鈦酸正丁酯、乙醇和水的混合溶液中,加入混合溶液總量0.1~0.18倍的硝酸溶液,攪拌均勻即得,其中,混合溶膠中鈦酸正丁酯、乙醇和水的質(zhì)量比為2~3.2:1.6~2.5:0.2~0.4。
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C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
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