[發明專利]一種基于微流控溝道系統的海水凈化裝置及其制備方法

有效

• 申請號: 201611176352.8
• 申請日: 2016-12-19
• 公開（公告）號: CN106587286B
• 公開（公告）日: 2020-09-29
• 發明（設計）人: 王偉;周嘉
• 申請（專利權）人: 復旦大學
• 主分類號: C02F1/469
• 分類號: C02F1/469;C02F103/08
• 代理公司: 上海信好專利代理事務所(普通合伙) 31249
• 代理人: 周乃鑫

1.一種基于微流控溝道系統的海水凈化裝置，其特征在于，該裝置包含：

襯底（500），

設置在襯底（500）上的液體溝道，以及

設置在液體溝道上用于定義并密封液體溝道的上蓋板（600）；

所述的液體溝道包含：

去離子溝道（300），

設置在去離子溝道（300）兩側的電極對（400），

設置在去離子溝道（300）與電極對（400）之間的介質層（700），以及

與去離子溝道（300）相連通的進口溝道（100）和出口溝道（200）；

所述的出口溝道（200）包含：凈水出口溝道（202），陰離子出口溝道（201），以及陽離子出口溝道（203）；所述的凈水出口溝道（202）用于凈化后的液體流出；所述的陰離子出口溝道（201）用于富含陰離子的廢液流出；所述的陽離子出口溝道（203）用于富含陽離子的廢液流出。

2.根據權利要求1所述的基于微流控溝道系統的海水凈化裝置，其特征在于，所述的凈水出口溝道（202）設置在陰離子出口溝道（201）和陽離子出口溝道（203）之間。

3.根據權利要求1所述的基于微流控溝道系統的海水凈化裝置，其特征在于，所述的介質層（700）覆蓋在電極對（400）的外壁上。

4.根據權利要求1所述的基于微流控溝道系統的海水凈化裝置，其特征在于，所述的電極對（400）為立體電極，其包含正極（402）和負極（401）；所述的正極（402）和負極（401）之間電氣隔離。

5.根據權利要求4所述的基于微流控溝道系統的海水凈化裝置，其特征在于，所述的正極（402）與所述的陰離子出口溝道（201）相鄰，所述的負極（401）與所述的陽離子出口溝道（203）相鄰。

6.根據權利要求1所述的基于微流控溝道系統的海水凈化裝置，其特征在于，所述的襯底（500）采用絕緣材料。

7.根據權利要求6所述的基于微流控溝道系統的海水凈化裝置，其特征在于，所述的介質層（700）采用高介電常數材料，該高介電常數材料包括：硅、五氧化二鉭和二氧化硅中的任意一種或兩種以上。

8.一種根據權利要求1-7中任意一項所述的基于微流控溝道系統的海水凈化裝置的制備方法，其特征在于，該制備方法包含：

步驟1：制備所述的液體溝道：在襯底（500）上制備包含進口 溝道（100）、去離子溝道（300）、出口溝道（200）的液體溝道；

步驟2：在去離子溝道（300）的兩側制備所述的介質層（700）；

步驟3：制備所述的電極對（400），電極對（400）之間電氣隔離，電極對（400）與去離子溝道（300）之間通過介質層（700）隔離；

步驟4：將制備完成的液體溝道與上蓋板（600）結合，獲得基于微流控溝道系統的海水凈化裝置。

9.根據權利要求8所述的基于微流控溝道系統的海水凈化裝置的制備方法，其特征在于，步驟2中制備所述的介質層（700）時，在去離子溝道（300）的兩側制備用以放置電極對（400）的溝槽，該溝槽與去離子溝道（300）中間預留殘余襯底材料為介質層（700）；

步驟3中所述的電極對（400）放置于所述的溝槽內。