[發明專利]用以降低模具內的氧氣濃度的腔室機構

有效

• 申請號: 201611170832.3
• 申請日: 2016-12-16
• 公開（公告）號: CN108117249B
• 公開（公告）日: 2021-01-19
• 發明（設計）人: 張煜檀
• 申請（專利權）人: 盟立自動化股份有限公司
• 主分類號: C03B23/03
• 分類號: C03B23/03
• 代理公司: 深圳新創友知識產權代理有限公司 44223
• 代理人: 江耀純

1.一種用以降低一模具內的一氧氣濃度的腔室機構，其特征在于，包含有︰

一腔體，其內形成一腔室，所述腔室用以容置所述模具；

一罩體升降機構，設置在所述腔體上；

一罩體，耦接于所述罩體升降機構且可活動地設置在所述腔室內，所述罩體上形成有一抽氣空間，所述罩體升降機構帶動所述罩體在所述腔室移動，其中所述罩體在被所述罩體升降機構帶動至一工作位置時覆蓋所述模具并使所述模具密封在所述抽氣空間內；

一管路模塊，包含：

一抽氣管路，連接于所述罩體，所述抽氣管路在所述罩體覆蓋所述模具時抽取所述抽氣空間內的一空氣；以及

一第一充氣管路，連接于所述罩體，所述第一充氣管路在所述罩體覆蓋所述模具時將一氮氣充填入所述抽氣空間內；

一真空泵，連接于所述抽氣管路并用來抽取所述空氣；

一控制單元，耦接于所述真空泵與所述罩體升降機構，所述控制單元用以控制所述罩體升降機構驅動所述罩體覆蓋所述模具；以及

一壓力感測組件，耦接于所述控制單元并用來在所述罩體覆蓋所述模具時感測所述抽氣空間內的一壓力值，且所述控制單元在所述壓力值小于一預定壓力值時控制所述真空泵停止抽取所述空氣。

2.如權利要求1所述的腔室機構，其特征在于，還包含有︰

一氮氣源，連接于所述第一充氣管路并用來提供所述氮氣。

3.如權利要求1所述的腔室機構，其特征在于，還包含有：

一開關閥，設置在所述第一充氣管路上且耦接于所述控制單元，所述控制單元在所述壓力值小于一預定壓力值時控制所述開關閥允許所述氮氣經所述第一充氣管路進入所述抽氣空間。

4.如權利要求2所述的腔室機構，其特征在于，還包含有一第二充氣管路，連接于所述腔體與所述氮氣源，且所述第二充氣管路將所述氮氣充填入所述腔室。

5.如權利要求4所述的腔室機構，其特征在于，還包含有一節流閥，設置在所述第二充氣管路上且用以調整所述氮氣流經所述第二充氣管路進入所述腔室的流量。

6.如權利要求1所述的腔室機構，其特征在于，所述腔體上形成有連通于所述腔室的一入口，且所述模具通過所述入口進入所述腔室。

7.如權利要求6所述的腔室機構，其特征在于，還包含有一入口閘門，所述入口閘門活動地安裝在所述腔體上，以選擇性地打開或封閉所述入口。

8.如權利要求7所述的腔室機構，其特征在于，還包含有一入口閘門升降機構，所述入口閘門升降機構耦接于所述入口閘門以及所述控制單元，使得所述控制單元控制所述入口閘門升降機構帶動所述入口閘門選擇性地打開或封閉所述入口。

9.如權利要求6所述的腔室機構，其特征在于，所述腔體上還形成有連通于所述腔室的一出口，所述出口與所述入口相對，且所述模具通過所述出口離開所述腔室。

10.如權利要求9所述的腔室機構，其特征在于，還包含有一入口閘門以及一出口閘門，所述入口閘門與所述出口閘門活動地安裝在所述腔體上，所述入口閘門選擇性地打開或封閉所述入口，且所述出口閘門選擇性地打開或封閉所述出口。