[發明專利]用于暗挖綜合管廊分倉結構的全斷面頂推系統及頂推方法

有效

• 申請號: 201611170327.9
• 申請日: 2016-12-16
• 公開（公告）號: CN106761806B
• 公開（公告）日: 2019-05-28
• 發明（設計）人: 寧加星;易敏;余流;李河玉;王會剛;賈建偉;王安鑫;吳坤標;劉曉敏;薛鋮
• 申請（專利權）人: 中國建筑第六工程局有限公司
• 主分類號: E21D9/11
• 分類號: E21D9/11
• 代理公司: 天津市北洋有限責任專利代理事務所 12201
• 代理人: 溫國林

1.一種用于暗挖綜合管廊分倉結構的全斷面頂推系統，其特征在于，包括設置在管廊內、用于承受倒T分倉結構自身重力的小縱梁上的減阻系統，和設置在管廊節點井內的頂推系統本體；所述頂推系統本體包括設置在節點井頂進反方向側墻側之間的反力背系統，所述反力背系統的前方、位于節點井底板上設置有倒T型頂力系統支撐架，所述頂力系統支撐架上設置有與所述反力背系統相接觸的頂力系統，所述頂力系統為設置在所述頂力系統支撐架上的若干個液壓油缸；所述頂力系統支撐架的前方、位于節點井底板上設置有用于穩定并傳送倒T分倉結構的框架型導軌；所述頂推系統本體還包括設置在所述導軌上、位于所述頂力系統和倒T分倉結構之間，與倒T分倉結構斷面形狀一致的傳力倒T梁。

2.根據權利要求1所述的用于暗挖綜合管廊分倉結構的全斷面頂推系統，其特征在于，所述反力背系統包括寬度大于管廊橫斷面的鋼板箱，和設置在鋼板箱兩側用于與節點井墻側相連接的連接件，所述鋼板箱內填充有混凝土。

3.根據權利要求1所述的用于暗挖綜合管廊分倉結構的全斷面頂推系統，其特征在于，所述頂力系統支撐架為由橫向型鋼、縱向型鋼和立柱組成的倒T型框架結構，所述頂力系統支撐架上開設有用于安裝所述頂力系統的預留頂力系統空間。

4.根據權利要求1所述的用于暗挖綜合管廊分倉結構的全斷面頂推系統，其特征在于，所述導軌為由立柱、橫向型鋼、縱向型鋼、斜向型鋼與鋼軌組成的框架結構，所述鋼軌設置在所述導軌頂面的兩側。

5.根據權利要求1所述的用于暗挖綜合管廊分倉結構的全斷面頂推系統，其特征在于，所述減阻系統包括包覆在小縱梁外表面上的底板，和設置在所述底板頂面、位于與倒T分倉結構接觸面處的減阻板，所述減阻板和所述底板之間設置有減阻劑。

6.根據權利要求5所述的用于暗挖綜合管廊分倉結構的全斷面頂推系統，其特征在于，所述底板采用不銹鋼板，所述減阻板采用聚四氟乙烯板。

7.一種基于上述權利要求1至6任一項所述用于暗挖綜合管廊分倉結構的全斷面頂推系統的頂推方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)根據管廊線路平縱曲線情況、吊裝設備情況進行倒T分倉結構的整體階段長度選擇；

(2)進行倒T分倉結構節段的整體預制；

(3)在綜合管廊節點井內進行反力背系統放線、吊裝，反力背系統與節點井側墻連接；

(4)在地面進行導軌拼裝，拼裝完成后整體吊裝至始發井內，精調就位后，導軌底部與節點井底板穩定連接；

(5)在地面進行頂力系統支撐架拼裝，拼裝完成后整體吊裝至始發井內，精調就位后，頂力系統支撐架底部與節點井底板穩定連接；

(6)安裝頂力系統至頂力系統支撐架內；

(7)在管廊內小縱梁外側包覆底板并在其頂面涂抹減阻劑，頂推前在倒T分倉結構與小縱梁接觸的滑動面處安放減阻板；

(8)吊裝節段倒T分倉結構至導軌上；

(9)吊裝傳力倒T梁放置在頂力系統與倒T分倉結構之間；

(10)開啟頂力系統，分節倒T分倉結構一一就位；

(11)在倒T分倉結構與管廊縫隙處灌縫、整平，完成分倉結構頂推。

8.根據權利要求7所述的用于暗挖綜合管廊分倉結構的全斷面頂推系統的頂推方法，其特征在于，步驟(2)中，預制的倒T分倉結構的斷面寬度比管廊內部橫斷面寬度小2～5cm。