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[發明專利]一種大棚甜瓜吊蔓栽培技術在審

專利信息
申請號: 201611170025.1 申請日: 2016-12-16
公開(公告)號: CN106717926A 公開(公告)日: 2017-05-31
發明(設計)人: 趙廷超 申請(專利權)人: 重慶珞優農業科技有限公司
主分類號: A01G1/00 分類號: A01G1/00;A01G1/06;A01G9/10
代理公司: 北京華仲龍騰專利代理事務所(普通合伙)11548 代理人: 黃玉玨
地址: 402260 重慶市江*** 國省代碼: 重慶;85
權利要求書: 查看更多 說明書: 查看更多
摘要:
搜索關鍵詞: 一種 大棚 甜瓜 栽培技術
【說明書】:

技術領域

發明涉及一種栽培方法,特別是一種大棚甜瓜吊蔓栽培技術。

背景技術

甜瓜又稱香瓜,是人們喜愛的高檔水果之一,它屬于葫蘆科甜瓜屬甜瓜種,是一年生草本植物。溫室冬春茬甜瓜栽培是保護地栽培的一個主要茬口,很多地區都形成了適應當地的高產栽培技術。一般667平方米產量15 000~20 000千克,效益5~6萬元,特別是2011年至2012年茬口較高的甜瓜價格,使很多棚戶效益達到8~10萬元,吸引了眾多棚戶想改其它品種生產為。

發明內容

一種大棚甜瓜吊蔓栽培技術,其特征在于包括以下步驟:

篩選成熟、飽滿、無病害的甜瓜種子,先用60℃-80℃的熱水處理1-2min,不斷攪拌使水溫下降到25℃-30℃后停止,然后用0.1%硫酸銅溶液和200倍液代森銨浸種20min,消毒后用清水將種子透洗干凈,用新毛巾包好,放在25℃-30℃的地方催芽,2d左右就可以發芽;

育苗:先播種甜瓜種子,5~7天后再播種砧木種子;在溫室中做寬1米,長50的平畦,畦埂高20厘米,每畦內撒30-40千克優質農家肥,整平耙實,灌透水;

播種:在地里起土壟,起壟后噴灑有機肥,每平米土壟施加2~3公斤生物有機肥,施加生物有機肥后土壟晾曬45~55小時,待用;所述生物有機肥為動物糞便與魚粉按重量比9:1~1.5混勻后,再添加總重量0.05~0.07%的胰蛋白中性酶,使其常溫無氧發酵20~28小時;均勻撒播種子,甜瓜種子之間相距4厘米左右,覆土厚度1.5厘米,播種后立即蓋地膜保濕;

嫁接:砧木2葉1心時進行嫁接,嫁接時先去除南瓜生長點,并在離子葉節5-10mm處的胚軸上按35角自下而上斜切一刀,切口深度為莖粗的3/5,再將舌形楔插入砧木的切口處,用嫁接夾固定,使甜瓜子葉壓在南瓜子葉上面,嫁接成活后切斷接穗莖基部;

嫁接苗處理:嫁接成活后的的種苗置于40-42℃的飽和水蒸汽環境中,同時通入微量溴甲烷和二氧化碳的混合物,進行熏蒸處理,甲烷與二氧化碳的體積比為2∶1,且溴甲烷的濃度為10-15g/m3時間為2-4min;將熏蒸處理得到的種苗置于壓力為2-3kPa、溫度為20℃中,實施真空處理,時間為10-15h;

定植:定植前7-10d作畦;采用甜瓜加行密植技術,主栽行的行距為1-1.2米,株距20-30厘米,每畝保苗2 200株左右,加行栽于主栽行的中間,每畝栽植2 000~2 200株。

本發明的優點在于:通過熏蒸化學處理和真空物理處理的聯合處理方法,以及各個處理過程中最優化的參數選取,兼具了優異的殺蟲脫毒效果,以及優異的生長效果,合理控制了處理的傷害和風險。

具體實施方式

實施例1

篩選成熟、飽滿、無病害的甜瓜種子,先用60℃-80℃的熱水處理1-2min,不斷攪拌使水溫下降到25℃-30℃后停止,然后用0.1%硫酸銅溶液和200倍液代森銨浸種20min,消毒后用清水將種子透洗干凈,用新毛巾包好,放在25℃-30℃的地方催芽,2d左右就可以發芽;

育苗:先播種甜瓜種子,5~7天后再播種砧木種子;在溫室中做寬1米,長50的平畦,畦埂高20厘米,每畦內撒30-40千克優質農家肥,整平耙實,灌透水;

播種:在地里起土壟,起壟后噴灑有機肥,每平米土壟施加2~3公斤生物有機肥,施加生物有機肥后土壟晾曬45~55小時,待用;所述生物有機肥為動物糞便與魚粉按重量比9:1~1.5混勻后,再添加總重量0.05~0.07%的胰蛋白中性酶,使其常溫無氧發酵20~28小時;均勻撒播種子,甜瓜種子之間相距4厘米左右,覆土厚度1.5厘米,播種后立即蓋地膜保濕;

嫁接:砧木2葉1心時進行嫁接,嫁接時先去除南瓜生長點,并在離子葉節5-10mm處的胚軸上按35角自下而上斜切一刀,切口深度為莖粗的3/5,再將舌形楔插入砧木的切口處,用嫁接夾固定,使甜瓜子葉壓在南瓜子葉上面,嫁接成活后切斷接穗莖基部;

嫁接苗處理:嫁接成活后的的種苗置于40-42℃的飽和水蒸汽環境中,同時通入微量溴甲烷和二氧化碳的混合物,進行熏蒸處理,甲烷與二氧化碳的體積比為2∶1,且溴甲烷的濃度為10-15g/m3時間為2-4min;將熏蒸處理得到的種苗置于壓力為2-3kPa、溫度為20℃中,實施真空處理,時間為10-15h;

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