[發(fā)明專利]可調(diào)轉(zhuǎn)速比的平面研磨裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201611169134.1
• 申請日: 2016-12-16
• 公開（公告）號: CN106737129A
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 崔濤;張建國;葛成;隋永新;楊懷江
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所
• 主分類號: B24B37/10
• 分類號: B24B37/10;B24B37/30;B24B37/16;B24B53/017
• 代理公司: 深圳市科進(jìn)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)44316
• 代理人: 趙勍毅

1.一種可調(diào)轉(zhuǎn)速比的平面研磨裝置，包括：外研磨盤、內(nèi)研磨盤、外驅(qū)動(dòng)軸、內(nèi)驅(qū)動(dòng)軸、工件粘板、搖臂和修整環(huán)，所述內(nèi)研磨盤與所述內(nèi)驅(qū)動(dòng)軸連接，所述外研磨盤與所述內(nèi)研磨盤同心設(shè)置，所述外研磨盤與所述外驅(qū)動(dòng)軸連接，所述工件粘板的下方與所述外研磨盤和所述內(nèi)研磨盤之間的位置用于放置工件，所述工件粘板放置于所述修整環(huán)內(nèi)，所述修整環(huán)與所述搖臂相接觸。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨裝置，其特征在于，所述內(nèi)研磨盤和所述外研磨盤分別通過銷釘與所述內(nèi)驅(qū)動(dòng)軸和所述外驅(qū)動(dòng)軸連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨裝置，其特征在于，工件通過石蠟與所述工件粘板粘結(jié)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨裝置，其特征在于，所述修整環(huán)為圓環(huán)形，所述修整環(huán)設(shè)置在所述工件粘板的外圍，且所述修整環(huán)的底部與所述內(nèi)研磨盤和所述外研磨盤相接觸。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨裝置，其特征在于，所述修整環(huán)與所述內(nèi)研磨盤和所述外研磨盤相接觸的表面設(shè)置有溝槽。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的研磨裝置，其特征在于，所述溝槽數(shù)量為兩個(gè)以上，且所述溝槽呈中心對稱分布。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨裝置，其特征在于，所述搖臂包括兩個(gè)滾輪，所述修整環(huán)的外圓柱面與所述搖臂的滾輪相接觸。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨裝置，其特征在于，所述內(nèi)研磨盤和外研磨盤為鑄鐵盤。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨裝置，其特征在于，所述工件粘板選自陶瓷、鑄鐵、永磁吸盤中的一種，所述工件粘板上設(shè)置有把手。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨裝置，其特征在于，所述內(nèi)研磨軸由第一圓柱和第二圓柱垂直組成，所述內(nèi)研磨軸的橫截面為T字型，所述第一圓柱的直徑和所述內(nèi)研磨盤的直徑保持一致。