[發明專利]一種形成大面積均勻穩定鋰膜流的結構在審
| 申請號： | 201611163691.2 | 申請日： | 2016-12-16 |
| 公開（公告）號： | CN108206060A | 公開（公告）日： | 2018-06-26 |
| 發明（設計）人： | 張秀杰;潘傳杰;許增裕 | 申請（專利權）人： | 核工業西南物理研究院 |
| 主分類號： | G21B1/13 | 分類號： | G21B1/13 |
| 代理公司： | 核工業專利中心 11007 | 代理人： | 高安娜 |
| 地址： | 610041 四川*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 鋰膜 弧形底壁 底壁 流系統 入口膜 液態鋰 膜流 流體流動控制 平行連接 連接邊 潤濕性 上表面 下表面 凹陷 長邊 凸起 收縮 | ||
【權利要求書】：
1.一種形成大面積均勻穩定鋰膜流的結構，包括若干個相同的弧形底壁單元，其特征在于：所述弧形底壁單元的上表面為一個弧度較小連續變化的凸起的曲面，下表面為一個弧度較小連續變化的凹陷的曲面，相鄰的兩個弧形底壁單元1平行連接，連接邊為長邊。
2.如權利要求1所述的一種形成大面積均勻穩定鋰膜流的結構，其特征在于：所述連接處的倒角范圍是1mm-3mm。
3.如權利要求1所述的一種形成大面積均勻穩定鋰膜流的結構，其特征在于：所述弧形底壁單元的厚度為1-3mm，d1寬度為40mm-80mm，高度為5mm-9m。
4.如權利要求1所述的一種形成大面積均勻穩定鋰膜流的結構，其特征在于：弧形底壁單元由鐵素體鋼或釩合金固體材料制作形成。
5.如權利要求1-4所述的一種形成大面積均勻穩定鋰膜流的結構，其特征在于：其寬度大于200mm，并且與單個弧形單元底壁寬度d1的比例為5:1至10:1。
6.如權利要求1-4所述的一種形成大面積均勻穩定鋰膜流的結構，其特征在于：其布置傾斜角度大于30度，液態金屬鋰沿著其長邊方向由上向下流動。
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