[發(fā)明專利]一種水平巖層構(gòu)造地貌的自動(dòng)識(shí)別方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201611163602.4 | 申請(qǐng)日: | 2016-12-15 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106777117B | 公開(公告)日: | 2020-04-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王凱亮;李安波;陳楹;姚蒙蒙;李夢(mèng)圓;王中元 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 南京師范大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G06F16/29 | 分類號(hào): | G06F16/29;G06T17/05 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
| 地址: | 210024 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 水平 巖層 構(gòu)造 地貌 自動(dòng)識(shí)別 方法 | ||
1.一種水平巖層構(gòu)造地貌自動(dòng)化識(shí)別的方法,其特征在于,該方法包括以下步驟:
(1)將矢量地形地質(zhì)圖的巖層面要素轉(zhuǎn)換為巖層界線線要素;
該步驟具體包括:
(1-1)將矢量地形地質(zhì)圖數(shù)據(jù)讀入巖層面要素集合A={ai1|i1=1,2,...,na},將等高線數(shù)據(jù)讀入等高線集合E={ei2|i2=1,2,...,ne},設(shè)置判定標(biāo)準(zhǔn)差的閾值Y1和Y2,長度閾值Len和判定整個(gè)巖層是否水平的閾值F;其中,ai1為包含rockid屬性的巖層面要素,na為巖層面要素的個(gè)數(shù),ei2為等高線,ne為等高線的條數(shù),Y1≥Y2,F(xiàn)∈[0.75,1];
(1-2)將巖層面要素集合離散化為線要素集合:讀取巖層邊界并預(yù)處理,從而將A轉(zhuǎn)換為巖層界線線要素集合L1={li|i=1,2,...,nl},li為巖層界線線要素,包含界線左巖層要素rockid1和界線右?guī)r層要素rockid2兩個(gè)屬性,nl為巖層界線的條數(shù);
(2)將巖層界線線要素轉(zhuǎn)換為離散的點(diǎn),生成離散點(diǎn)集合;
該步驟具體為:依次讀取L1中的每個(gè)巖層界線線要素li,將li中的每個(gè)節(jié)點(diǎn)坐標(biāo)記錄到集合pi={(xij,yij)|j=1,2,..,leni},其中,(xij,yij)表示li的第j個(gè)節(jié)點(diǎn)坐標(biāo),leni表示li所包含節(jié)點(diǎn)的個(gè)數(shù);最終生成所有巖層界線離散后的點(diǎn)集合P={pi|i=1,2,..,nl};
(3)基于等高線插值生成數(shù)字高程模型的基礎(chǔ)上,進(jìn)行離散點(diǎn)高程賦值并計(jì)算每條巖層界線所對(duì)應(yīng)點(diǎn)集合的高程屬性值;
該步驟具體包括:
(3-1)將矢量的等高線離散化為數(shù)據(jù)點(diǎn),然后采用IDW插值方法內(nèi)插生成數(shù)字高程模型DEM;
(3-2)點(diǎn)集合P中點(diǎn)的高程信息的獲取:根據(jù)DEM,逐一讀取點(diǎn)集合P中節(jié)點(diǎn)的坐標(biāo)信息,將節(jié)點(diǎn)的坐標(biāo)值換算成DEM的柵格行列號(hào)其中:
式中,為柵格數(shù)據(jù)的行列號(hào);X,Y為點(diǎn)集合P中節(jié)點(diǎn)的橫、縱坐標(biāo)值;X0,Y0為柵格數(shù)據(jù)的起始坐標(biāo),size表示柵格大小;
(3-3)根據(jù)獲取相應(yīng)的柵格值,并將柵格值作為相應(yīng)點(diǎn)的高程屬性值記錄,則將P轉(zhuǎn)換為具有高程屬性值的點(diǎn)集合Q={qi|i=1,2,..,nl},其中,qi={(xij,yij,dij)|j=1,2,..,leni},dij為qi的第j個(gè)點(diǎn)的高程屬性值;
(4)基于二分法,根據(jù)高程屬性值迭代篩選出符合判別閾值的水平巖層界線;
該步驟具體包括:
(4-1)分別計(jì)算Q的子集qi的高程屬性列的標(biāo)準(zhǔn)差Si和qi的長度lengthi,其中,
式中,表示qi平均高程屬性值;
(4-2)根據(jù)計(jì)算結(jié)果進(jìn)行如下判斷操作:
1)若Si>Y1,則qi所代表的巖層界線不水平,跳至步驟(4-3);
2)若Si≤Y2,qi轉(zhuǎn)換為空間線要素,和其所屬的巖層界線一并存儲(chǔ)到集合L2,跳至步驟(4-3);
3)若Y2<Si≤Y1,且lengthi<Len,跳至步驟(4-3);
4)若Y2<Si≤Y1,且lengthi≥Len,采用以下公式將集合qi分為子集合qi1和子集合qi2,并返回執(zhí)行步驟(4-1);
(4-3)將判別為水平巖層界線的相鄰子集合并;
(4-4)讀取Q的下一個(gè)子集,重復(fù)步驟(4-1),直至i取盡1,2,..,nl,處理完所有的子集,最后生成水平巖層界線集合L2={lhi3|i3=1,2,...,nlh},lhi3為水平巖層界線,nlh為水平巖層界線的條數(shù);
(5)根據(jù)水平巖層界線的屬性值,匹配上、下巖層界線,生成水平巖層面狀要素。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水平巖層構(gòu)造地貌自動(dòng)化識(shí)別的方法,其特征在于:步驟(5)具體包括以下步驟:
(5-1)讀取巖層面要素集合A的一個(gè)元素ai1,用rni1表示ai1的rockid屬性:
1)遍歷L2中所有水平巖層界線,將rockid1屬性等于rni1的水平巖層界線記錄到集合N1i1中;
2)遍歷L2中所有水平巖層界線,將rockid2屬性等于rni1的水平巖層界線記錄到集合N2i1中;
3)根據(jù)公式計(jì)算得到fi,其中,M表示N1i1和N2i1中所有水平巖層界線所包含的節(jié)點(diǎn)數(shù),N表示巖層面ai1所包含的節(jié)點(diǎn)數(shù);
4)若N1i1和N2i1都不為空且fi≥F,說明ai1是水平巖層要素;否則,ai1是非水平巖層要素;
(5-2)重復(fù)步驟(5-1),直到處理完A中所有元素;
(5-3)將識(shí)別出的水平巖層面要素另存為新圖層,即為水平巖層構(gòu)造地貌。
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