[發明專利]輝光放電質譜設備用陶瓷片的清洗方法

在審

• 申請號: 201611161131.3
• 申請日: 2016-12-15
• 公開（公告）號: CN108212912A
• 公開（公告）日: 2018-06-29
• 發明（設計）人: 姚力軍;潘杰;相原俊夫;王學澤;陳勝潔
• 申請（專利權）人: 寧波江豐電子材料股份有限公司
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;B08B3/12;F26B3/00;F26B5/04
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 高靜;吳敏

本發明提供一種輝光放電質譜設備用陶瓷片的清洗方法，包括：提供輝光放電質譜設備用陶瓷片；對陶瓷片進行第一清洗工藝；第一清洗工藝后對陶瓷片進行第二清洗工藝，第二清洗工藝包括超聲波清洗工藝；第二清洗工藝后在預設溫度下對陶瓷片進行干燥工藝。第一清洗工藝主要用于去除陶瓷片表面的金屬雜質，由于陶瓷片本身具有較多微孔，微孔內容易吸附雜質(例如第一清洗工藝后的金屬溶解物)，因此通過超聲波清洗工藝，可以有效去除第一清洗工藝后微孔內的殘留雜質，且在預設溫度下進行干燥工藝時，還可以使微孔內剩余低熔點的殘留雜質蒸發，從而提高對陶瓷片的雜質去除效果，減少陶瓷片雜質殘余，進而提高輝光放電質譜的檢測準確性和檢測效率。

技術領域

本發明涉及元素分析領域，尤其涉及一種輝光放電質譜設備用陶瓷片的清洗方法。

背景技術

輝光放電質譜(Glow Discharge Mass Spectrometry，GDMS)是目前高純固體導電材料純度分析和雜質成分分析最有效的方法。輝光放電質譜是利用輝光放電源作為離子源與質譜儀器聯接進行質譜分析的一種分析方法，具有靈敏度高、檢出限低、可同時分析70種以上雜質元素等優點。由于輝光放電質譜可以直接固體進樣，因此越來越被廣泛應用于高純金屬、合金等材料的分析。

輝光放電質譜由輝光放電離子源(GD源)和質譜分析器兩部分組成。輝光放電離子源利用惰性氣體(一般是氬氣，壓強約10Pa至100Pa)在上千伏特電壓下電離產生的離子撞擊樣品表面使之發生濺射，濺射產生的樣品原子擴散至等離子體中進一步離子化，進而被質譜分析器收集檢測。

但是，現有技術輝光放電質譜的檢測準確性和檢測效率較低。

發明內容

本發明解決的問題是提供一種輝光放電質譜設備用陶瓷片的清洗方法，提高輝光放電質譜的檢測準確性和檢測效率。

為解決上述問題，本發明提供一種輝光放電質譜設備用陶瓷片的清洗方法，包括：提供輝光放電質譜設備用陶瓷片；對所述陶瓷片進行第一清洗工藝；第一清洗工藝后，對所述陶瓷片進行第二清洗工藝，所述第二清洗工藝包括超聲波清洗工藝；第二清洗工藝后，在預設溫度下對所述陶瓷片進行干燥工藝。

可選的，所述第一清洗工藝為酸洗工藝。

可選的，對所述陶瓷片進行第一清洗工藝的步驟中，采用的酸洗溶液為氫氟酸、硝酸和水的混合溶液。

可選的，所述酸洗工藝的工藝時間為1分鐘至3分鐘。

可選的，對所述陶瓷片進行第二清洗工藝的步驟包括：采用蒸餾水對所述陶瓷片進行預清洗工藝；預清洗工藝后，在蒸餾水中對所述陶瓷片進行超聲波清洗工藝。

可選的，所述預清洗工藝包括至少3次浸取操作；所述浸取操作的步驟包括：將所述陶瓷片浸入蒸餾水中；將所述陶瓷片從所述蒸餾水中取出。

可選的，所述預清洗工藝包括3次至5次的浸取操作。

可選的，在蒸餾水中對所述陶瓷片進行超聲波清洗工藝的步驟包括至少3次蒸餾水超聲清洗；所述蒸餾水超聲清洗的步驟包括：采用超聲波振蕩器進行所述蒸餾水超聲清洗，所述超聲波振蕩器的功率為150W至500W，輸出頻率為20KHz至40KHz，清洗時間為1分鐘至3分鐘。

可選的，在蒸餾水中對所述陶瓷片進行超聲波清洗工藝的步驟包括3次至5次的蒸餾水超聲清洗。

可選的，對所述陶瓷片進行第二清洗工藝的步驟為：在蒸餾水中對所述陶瓷片進行超聲波清洗工藝。

可選的，在蒸餾水中對所述陶瓷片進行超聲波清洗工藝的步驟包括至少5次蒸餾水超聲清洗；所述蒸餾水超聲清洗的步驟包括：采用超聲波振蕩器進行所述蒸餾水超聲清洗，所述超聲波振蕩器的功率為150W至500W，輸出頻率為20KHz至40KHz，清洗時間為1分鐘至3分鐘。