[發(fā)明專利]裝備清潔系統(tǒng)和方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201611159950.4
• 申請(qǐng)日: 2016-12-15
• 公開（公告）號(hào): CN107023390B
• 公開（公告）日: 2021-01-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: N.蒂貝茨;B.P.布萊;S.R.基思;B.A.小普里查;B.卡爾布;E.J.多利;A.J.詹金斯;A.西林;S.F.魯特科夫斯基
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 通用電氣公司
• 主分類號(hào): F02B77/04
• 分類號(hào): F02B77/04;F01D25/00
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 肖日松;安文森

1.一種清潔方法，其包括：

將由多個(gè)部件形成的發(fā)動(dòng)機(jī)組件(200)浸入儲(chǔ)槽(102)中的流體清潔劑(104)中；

使所述發(fā)動(dòng)機(jī)組件(200)暴露于具有大于40kHz的頻率的超聲波；和

生成所述流體清潔劑(104)的氣穴，以移除所述發(fā)動(dòng)機(jī)組件(200)的部件中的一個(gè)或更多個(gè)上的沉積物而不損傷所述發(fā)動(dòng)機(jī)組件(200)；

在使所述發(fā)動(dòng)機(jī)組件(200)暴露于所述超聲波之前將屏蔽及衰減裝置(1500)放置成與所述發(fā)動(dòng)機(jī)組件(200)接觸，其中，所述屏蔽及衰減裝置(1500)防止由所述超聲波造成的對(duì)所述發(fā)動(dòng)機(jī)組件(200)的損傷；

其中，所述儲(chǔ)槽包括可撓主體，其在所述發(fā)動(dòng)機(jī)組件與飛機(jī)的機(jī)翼連接時(shí)卷繞所述發(fā)動(dòng)機(jī)組件。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，生成所述流體清潔劑(104)的氣穴來移除所述沉積物而不將所述超聲波聚焦在所述沉積物所位于的部位處。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述流體清潔劑具有在所述流體清潔劑的按體積計(jì)算百分之25和百分之70之間的范圍內(nèi)的水、在所述流體清潔劑的按體積計(jì)算百分之1和百分之50的范圍內(nèi)的酸性組分、和在所述流體清潔劑的按體積計(jì)算百分之1和百分之40的范圍內(nèi)的胺組分；并且所述流體清潔劑(104)包括檸檬酸清潔劑(104)。

4.一種清潔方法，其包括：

將裝備組件(200)放置成與儲(chǔ)槽(102)中的流體清潔劑(104)接觸；和

在所述裝備組件(200)與所述流體清潔劑(104)接觸時(shí)，通過使所述裝備組件(200)暴露于具有大于40kHz的頻率的超聲波來移除所述裝備組件(200)上的一個(gè)或更多個(gè)沉積物；

在使所述裝備組件(200)暴露于所述超聲波之前將屏蔽及衰減裝置(1500)放置成與所述裝備組件(200)接觸，其中，所述屏蔽及衰減裝置(1500)防止由所述超聲波造成的對(duì)所述裝備組件(200)的損傷；

其中，所述儲(chǔ)槽包括可撓主體，其在所述裝備組件與飛機(jī)的機(jī)翼連接時(shí)卷繞所述裝備組件。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，從所述裝備組件(200)移除所述一個(gè)或更多個(gè)沉積物包括利用所述超聲波導(dǎo)致所述流體清潔劑(104)中的氣穴。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，從所述裝備組件(200)移除所述一個(gè)或更多個(gè)沉積物包括使所述裝備組件(200)暴露于所述超聲波而不將所述超聲波聚焦在所述一個(gè)或更多個(gè)沉積物所位于的部位處。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，所述流體清潔劑具有在所述流體清潔劑的按體積計(jì)算百分之25和百分之70之間的范圍內(nèi)的水、在所述流體清潔劑的按體積計(jì)算百分之1和百分之50的范圍內(nèi)的酸性組分、和在所述流體清潔劑的按體積計(jì)算百分之1和百分之40的范圍內(nèi)的胺組分；并且所述流體清潔劑(104)包括具有檸檬酸的清潔劑(104)。

8.一種清潔系統(tǒng)，其包括：

儲(chǔ)槽(102)，其構(gòu)造成保持流體清潔劑(104)和裝備組件(200)；和

一個(gè)或更多個(gè)超聲換能器，其構(gòu)造成在所述裝備組件(200)與所述流體清潔劑(104)接觸時(shí)通過使具有大于40kHz的頻率的超聲波生成和傳播到所述流體清潔劑(104)中來移除所述裝備組件(200)上的一個(gè)或更多個(gè)沉積物；

屏蔽及衰減裝置，其構(gòu)造成在使所述裝備組件暴露于所述超聲波之前被放置成與所述裝備組件(200)接觸，其中，所述屏蔽及衰減裝置防止由所述超聲波造成的對(duì)所述裝備組件的損傷；

其中，所述儲(chǔ)槽包括可撓主體，其在所述裝備組件與飛機(jī)的機(jī)翼連接時(shí)卷繞所述裝備組件。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其中，所述裝備組件(200)由連結(jié)在一起的兩個(gè)或更多個(gè)分開構(gòu)件形成，并且所述一個(gè)或更多個(gè)沉積物在不將所述構(gòu)件彼此分開的情況下移除。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其中，所述一個(gè)或更多個(gè)換能器構(gòu)造成生成頻率為至少80kHz的超聲波。