[發明專利]形成液晶顯示裝置的配向層的方法及顯示裝置有效
| 申請號: | 201611157238.0 | 申請日: | 2016-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN106990615B | 公開(公告)日: | 2021-05-07 |
| 發明(設計)人: | 錢胤;戴幸志;張明;繆佳君 | 申請(專利權)人: | 豪威科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1337 | 分類號: | G02F1/1337 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 邱軍;王蕊瑞 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 形成 液晶 顯示裝置 方法 | ||
1.一種形成顯示裝置的配向層的方法,該方法包括:
提供基板,該基板具有沉積在其上的配向層材料;以及
將光施加至該配向層材料,
其中,該施加光的步驟改變該配向層材料的表面的表面形態;
將光施加至該配向層材料的步驟包括:施加來自脈沖激光器的一連串脈沖以對該配向層材料的部分進行退火;以及
該配向層材料包括氧化物,以及其中:
所述施加來自該脈沖激光器的一連串激光脈沖的步驟在該配向層材料的所述表面上產生重復性特征圖案,
該特征圖案包括限定在該配向表面上的谷部圖案,并且
與該谷部有關的區域的材料密度大于該配向層的其它區域的材料密度,該配向層由該材料制成。
2.根據權利要求1的方法,其中該一連串脈沖相對于該基板沿著預定路徑來施加。
3.根據權利要求2的方法,進一步包括:
沿著該預定路徑在第一位置將預定數量的脈沖施加至該配向層材料,以改變接近該第一位置的配向層材料的表面形態;以及
沿著該預定路徑在第二位置將該預定數量的激光脈沖施加至該配向層材料,以改變接近該第二位置的配向層材料的表面形態。
4.根據權利要求3的方法,其中該預定數量是一個。
5.根據權利要求2的方法,其中:
沿著多條平行路徑施加該一連串脈沖;以及
限定所述平行路徑,使得所述平行路徑中相鄰平行路徑的曝光區域重疊預定量。
6.根據權利要求5的方法,其中該預定量為50%。
7.根據權利要求1的方法,其中:
所述施加來自該脈沖激光器的一連串脈沖的步驟包括在多個預定位置中的每一個處施加預定數量的脈沖;以及
所述多個預定位置的相鄰位置之間的距離確定該特征的相鄰特征之間的節距。
8.根據權利要求1的方法,其中該配向層材料包括旋涂式電介質(SOD)。
9.根據權利要求8的方法,其中該旋涂式電介質包括二氧化硅。
10.根據權利要求1的方法,其中所述提供該基板的步驟包括利用旋涂工藝將該配向層材料沉積在該基板之上。
11.根據權利要求10的方法,其中該配向層材料包括旋涂式電介質(SOD)。
12.根據權利要求1的方法,其中:
該基板包括硅基板和形成在該硅基板上的多個像素鏡;以及
該配向層材料沉積在該多個像素鏡之上。
13.根據權利要求1的方法,其中:
該基板包括透明基板,該透明基板具有形成于其上的透明電極層;以及
該配向層材料沉積在該透明電極層之上。
14.一種顯示裝置,包括:
硅基板;
多個像素鏡,形成在該硅基板之上;以及
配向層,形成在該多個像素鏡之上,
且其中該配向層包括與該多個像素鏡相對的配向表面,以及
該配向表面的表面形態包括形成于其中的特征圖案,該特征圖案指示有激光退火,以及其中
該配向層包括氧化物,
該特征圖案包括限定在該配向表面上的谷部圖案,并且
與該谷部有關的區域的材料密度大于該配向層的其它區域的材料密度,該配向層由該材料制成。
15.根據權利要求14的顯示裝置,其中該配向層包括旋涂式電介質(SOD)。
16.根據權利要求15的顯示裝置,其中該旋涂式電介質包括二氧化硅。
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