[發(fā)明專(zhuān)利]存儲(chǔ)器單元及存儲(chǔ)器陣列有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201611154298.7 | 申請(qǐng)日: | 2016-12-14 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107785053B | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-04-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳孟益;翁偉哲;陳信銘 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 力旺電子股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G11C17/16 | 分類(lèi)號(hào): | G11C17/16;G11C17/18;H01L27/112 |
| 代理公司: | 深圳新創(chuàng)友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44223 | 代理人: | 江耀純 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)*** | 國(guó)省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 存儲(chǔ)器 單元 陣列 | ||
1.一種存儲(chǔ)器單元,其特征在于,包括:
第一選擇晶體管,具有第一端耦接于位線(xiàn),第二端,及柵極端耦接于字符線(xiàn);
第一接續(xù)柵極晶體管,具有第一端耦接于所述第一選擇晶體管的所述第二端,第二端,及柵極端耦接于接續(xù)控制線(xiàn);
反熔絲晶體管,具有第一端耦接于所述第一接續(xù)柵極晶體管的所述第二端,第二端,及柵極端耦接于反熔絲控制線(xiàn);
第二接續(xù)柵極晶體管,具有第一端耦接于所述反熔絲晶體管的所述第二端,第二端,及柵極端耦接于所述接續(xù)控制線(xiàn);及
第二選擇晶體管,具有第一端耦接于所述第二接續(xù)柵極晶體管的所述第二端,第二端耦接于所述位線(xiàn),及柵極端耦接于所述字符線(xiàn)。
2.如權(quán)利要求1所述的存儲(chǔ)器單元,其特征在于:
所述第一選擇晶體管另具有第一源極/漏極延伸區(qū)耦接于所述第一選擇晶體管的所述第一端,及第二源極/漏極延伸區(qū)耦接于所述第一選擇晶體管的所述第二端,所述第一源極/漏極延伸區(qū)及所述第二源極/漏極延伸區(qū)都設(shè)置在所述第一選擇晶體管的所述柵極端的下方;
所述第一接續(xù)柵極晶體管另具有第一源極/漏極延伸區(qū)設(shè)置在所述第一接續(xù)柵極晶體管的所述柵極端的下方,且耦接于所述第一接續(xù)柵極晶體管的所述第一端;
所述第二接續(xù)柵極晶體管另具有第一源極/漏極延伸區(qū)設(shè)置在所述第二接續(xù)柵極晶體管的所述柵極端的下方,且耦接于所述第二接續(xù)柵極晶體管的所述第二端;及
所述第二選擇晶體管另具有第一源極/漏極延伸區(qū)耦接于所述第二選擇晶體管的所述第一端,及第二源極/漏極延伸區(qū)耦接于所述第二選擇晶體管的所述第二端,所述第一源極/漏極延伸區(qū)及所述第二源極/漏極延伸區(qū)都設(shè)置在所述第二選擇晶體管的所述柵極端的下方。
3.如權(quán)利要求2所述的存儲(chǔ)器單元,其特征在于所述反熔絲晶體管是金氧半電容。
4.如權(quán)利要求2所述的存儲(chǔ)器單元,其特征在于:
所述第一接續(xù)柵極晶體管另具有第二源極/漏極延伸區(qū)設(shè)置在所述第一接續(xù)柵極晶體管的所述柵極端的下方,且耦接于所述第一接續(xù)柵極晶體管的所述第二端;
所述反熔絲晶體管另具有第一源極/漏極延伸區(qū)耦接于所述反熔絲晶體管的所述第一端,及第二源極/漏極延伸區(qū)耦接于所述反熔絲晶體管的所述第二端,所述第一源極/漏極延伸區(qū)及所述第二源極/漏極延伸區(qū)都設(shè)置在所述反熔絲晶體管的所述柵極端下方;及
所述第二接續(xù)柵極晶體管另具有第二源極/漏極延伸區(qū)設(shè)置在所述第二接續(xù)柵極晶體管的所述柵極端的下方,且耦接于所述第二接續(xù)柵極晶體管的所述第一端。
5.如權(quán)利要求4所述的存儲(chǔ)器單元,其特征在于所述反熔絲晶體管是金氧半電容。
6.如權(quán)利要求2所述的存儲(chǔ)器單元,其特征在于:
所述第一接續(xù)柵極晶體管另具有變形源極/漏極延伸區(qū)設(shè)置在所述第一接續(xù)柵極晶體管的所述柵極端的下方,且耦接于所述第一接續(xù)柵極晶體管的所述第二端;
所述反熔絲晶體管另具有變形源極/漏極延伸區(qū)設(shè)置在所述反熔絲晶體管的所述柵極端下方,且耦接于所述反熔絲晶體管的所述第一端及所述第二端;及
所述第二接續(xù)柵極晶體管另具有變形源極/漏極延伸區(qū)設(shè)置在所述第二接續(xù)柵極晶體管的所述柵極端的下方,且耦接于所述第二接續(xù)柵極晶體管的所述第一端。
7.如權(quán)利要求6所述的存儲(chǔ)器單元,其特征在于所述反熔絲晶體管是反熔絲變?nèi)荨?/p>
8.如權(quán)利要求2所述的存儲(chǔ)器單元,其特征在于:
所述第一接續(xù)柵極晶體管的所述第二端、所述反熔絲晶體管的所述第一端及所述第二端,及所述第二接續(xù)柵極晶體管的所述第一端都設(shè)置在井區(qū)。
9.如權(quán)利要求8所述的存儲(chǔ)器單元,其特征在于:
所述第一選擇晶體管、所述第一接續(xù)柵極晶體管、所述第二選擇晶體管及所述第二接續(xù)柵極晶體管都是利用N型金氧半場(chǎng)效晶體管形成;及
所述井區(qū)是N型井。
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