[發明專利]一種啁啾數字遞變結構的低缺陷異變緩沖層有效
| 申請號: | 201611153882.0 | 申請日: | 2016-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN106601839B | 公開(公告)日: | 2018-03-09 |
| 發明(設計)人: | 馬英杰;顧溢;張永剛 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海微系統與信息技術研究所 |
| 主分類號: | H01L31/0352 | 分類號: | H01L31/0352;H01L21/02 |
| 代理公司: | 上海泰能知識產權代理事務所31233 | 代理人: | 黃志達,魏峯 |
| 地址: | 200050 上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 啁啾 數字 遞變 結構 缺陷 緩沖 | ||
1.一種啁啾數字遞變結構的低缺陷異變緩沖層,其特征在于:所述緩沖層包含N個層厚相同的周期性過渡層,每個周期內均包含A、B兩層材料,且A、B材料的厚度比從N:1依次遞變到1:N;其中,N≥2,A材料的晶格常數為a,B材料的晶格常數為b,a與b不同。
2.根據權利要求1所述的一種啁啾數字遞變結構的低缺陷異變緩沖層,其特征在于:所述A、B材料具有相同的空間晶格點陣結構。
3.根據權利要求1所述的一種啁啾數字遞變結構的低缺陷異變緩沖層,其特征在于:所述A、B材料具有相同或者不同的元素種類數目。
4.根據權利要求1所述的一種啁啾數字遞變結構的低缺陷異變緩沖層,其特征在于:所述A、B材料的厚度比的變化方式具體為:N:1,(N-1):2,(N-2):3,(N-3):4,……,4:(N-3),3:(N-2),2:(N-1),1:N。
5.根據權利要求1所述的一種啁啾數字遞變結構的低缺陷異變緩沖層,其特征在于:所述緩沖層的總厚度為T nm,T>0。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





