[發(fā)明專利]一種星載超輕合金材料的電子輻射試驗(yàn)裝置及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611149669.2 | 申請日: | 2016-12-13 |
| 公開(公告)號: | CN106645991B | 公開(公告)日: | 2019-02-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 靳浩;沈嶸康 | 申請(專利權(quán))人: | 上海衛(wèi)星工程研究所 |
| 主分類號: | G01R29/08 | 分類號: | G01R29/08;B64G7/00 |
| 代理公司: | 上海漢聲知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31236 | 代理人: | 郭國中;樊昕 |
| 地址: | 200240 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 法拉第筒 電子輻射 試驗(yàn)裝置 輕金屬合金材料 電子加速器 束流積分儀 真空計(jì) 星載 參考數(shù)據(jù) 測量電子 常溫常壓 帶電粒子 電子束流 合金材料 屏蔽效果 入射窗口 試驗(yàn)試件 衛(wèi)星空間 抽真空 抗輻射 超輕 束流 測量 試驗(yàn) | ||
1.一種星載超輕金屬合金材料的電子輻射試驗(yàn)方法,采用星載超輕金屬合金材料的電子輻射試驗(yàn)裝置,所述裝置包括電子加速器、法拉第筒、真空計(jì)以及束流積分儀,試驗(yàn)試件在常溫常壓下置于法拉第筒入射窗口位置,電子加速器加電子束流,法拉第筒接收并測量電子束流,法拉第筒需抽真空,其真空度≤0.5Pa,用真空計(jì)測量,束流積分儀用于讀取數(shù)據(jù),其特征在于,試驗(yàn)過程包括如下:
步驟1:獲得衛(wèi)星參試超輕合金金屬材料;
步驟2:將法拉第筒放置在加速器輻照射野中心,距電子加速器入射窗口一定距離處,抽真空至≤0.5Pa;
步驟3:記錄試驗(yàn)溫度、濕度;
步驟4:在電子加速器開機(jī)不加束流情況下,測量法拉第筒本底漏電流Ib;
步驟5:利用不同能量或注量率的電子進(jìn)行電子輻照試驗(yàn);
步驟6:按照試驗(yàn)工況要求的順序和試件厚度順序依次更換試件,測量透射率;
其中,所述步驟5包括:
1):在電子加速器開機(jī)加束流情況下,在法拉第筒入射窗上放置一試件,測量法拉第筒接收束流情況,考察輻射情況下法拉第筒漏電流Ib’,Ib’應(yīng)與Ib近似;
2):電子加速器能量分別設(shè)置為1.1MeV和1.5MeV,標(biāo)稱束流設(shè)為0.01mA,觀察開機(jī)后束流積分儀讀數(shù)穩(wěn)定所需時間,連續(xù)測量三次,取平均值,此值為電子束穿過試件前的初始電子束注量率I0;
3):改變標(biāo)稱束流至0.05mA和0.1mA,重復(fù)第2)步試驗(yàn)過程,分別測量初始電子束注量率;
4):加速器關(guān)閉束流后,將試件放置在法拉第筒入射窗上,按同上的束流能量和標(biāo)稱束流設(shè)置電子加速器,在出束一分鐘后,測量束流積分儀讀數(shù),每個標(biāo)稱束流下連續(xù)測量三次,取平均值,此值為電子束穿過試件后的透射電子束注量率IT;
5):求取三種標(biāo)稱束流下的比值T=IT/I0,畫透射系數(shù)對標(biāo)稱束流的曲線,觀察透射系數(shù)是否隨初始束流強(qiáng)度呈線性關(guān)系,在線性區(qū)內(nèi)選擇一個合適的標(biāo)稱束流,作為其他厚度試件輻照的基準(zhǔn)束流。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的星載超輕金屬合金材料的電子輻射試驗(yàn)方法,其特征在于,電子加速器能量設(shè)置為1.1MeV和1.5MeV兩種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的星載超輕金屬合金材料的電子輻射試驗(yàn)方法,其特征在于,步驟6),每測量n個厚度試件后,測量一次初始束流強(qiáng)度,即不放試件的電子束束流強(qiáng)度,檢查加速器束流的穩(wěn)定性。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的星載超輕金屬合金材料的電子輻射試驗(yàn)方法,其特征在于,若改變試件厚度后,束流積分儀讀數(shù)已接近本底漏電流Ib’,則該種材料試件的試驗(yàn)結(jié)束,換下一種材料或電子能量繼續(xù)試驗(yàn)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海衛(wèi)星工程研究所,未經(jīng)上海衛(wèi)星工程研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201611149669.2/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





