[發明專利]磁控共濺射制備面內磁化哈斯勒合金薄膜的方法有效
| 申請號： | 201611147545.0 | 申請日： | 2016-12-13 |
| 公開（公告）號： | CN106498359B | 公開（公告）日： | 2019-06-25 |
| 發明（設計）人： | 張憲民;包涵;林佳新;仝軍偉;艾小薇;張潤鑫;秦高梧 | 申請（專利權）人： | 東北大學 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C23C14/18 |
| 代理公司： | 沈陽東大知識產權代理有限公司 21109 | 代理人： | 梁焱 |
| 地址： | 110819 遼寧*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 磁控共 濺射 制備 磁化 哈斯勒 合金 薄膜 方法 | ||
【說明書】：
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