[發明專利]金屬青銅類化合物、其制造方法以及墨水

有效

• 申請號: 201611145299.5
• 申請日: 2016-12-13
• 公開（公告）號: CN108611627B
• 公開（公告）日: 2020-09-01
• 發明（設計）人: 蔡明志;何羽軒
• 申請（專利權）人: 華邦電子股份有限公司
• 主分類號: C23C20/08
• 分類號: C23C20/08
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 陶敏;臧建明

1.一種金屬青銅類化合物，其特征在于，其為由下述通式(1)所表示的化合物，

A_xM_yO_z (1)

在所述通式(1)中，A表示至少一種陽離子，M表示選自過渡金屬與類金屬的至少兩種離子，

x為作為A的所述至少一種陽離子的數目的和，y為作為M的選自所述過渡金屬與所述類金屬的所述至少兩種離子的數目的和，z為氧離子的數目，

x、y與z的值使所述通式(1)的電荷數達到平衡，

其中A的所述至少一種陽離子包括氫離子、堿金屬離子、堿土金屬離子、稀土金屬離子、銨類離子或其組合，

其中所述過渡金屬選自于由鈦、鋯、鉿、釩、銅、鐵、鈷、鎳、錳、鈮、鉭、錸、釕以及鉑所構成的群組，以及

其中所述類金屬選自于由硅、硼、鍺以及砷所構成的群組。

2.根據權利要求1所述的金屬青銅類化合物，其特征在于，作為A的所述至少一種陽離子包括氫離子、鋰離子、鈉離子、鉀離子、銣離子、銫離子、銀離子或其組合。

3.一種金屬青銅類化合物的制造方法，其特征在于，包括：

將選自過渡金屬前驅物與類金屬前驅物的至少兩種前驅物與陽離子前驅物于溶劑中進行混合；以及

使所述過渡金屬前驅物與所述類金屬前驅物的所述至少兩種前驅物與所述陽離子前驅物進行反應，而獲得由下述通式(1)所表示的金屬青銅類化合物，

A_xM_yO_z (1)

在所述通式(1)中，A表示至少一種陽離子，M表示選自過渡金屬與類金屬的至少兩種離子，

x為作為A的所述至少一種陽離子的數目的和，y為作為M的選自所述過渡金屬與所述類金屬的所述至少兩種離子的數目的和，z為氧離子的數目，

x、y與z的值使所述通式(1)的電荷數達到平衡，

其中A的所述至少一種陽離子包括氫離子、堿金屬離子、堿土金屬離子、稀土金屬離子、銨類離子或其組合

其中所述過渡金屬選自于由鈦、鋯、鉿、釩、銅、鐵、鈷、鎳、錳、鈮、鉭、錸、釕以及鉑所構成的群組，以及

其中所述類金屬選自于由硅、硼、鍺以及砷所構成的群組。

4.根據權利要求3所述的金屬青銅類化合物的制造方法，其特征在于，所述過渡金屬前驅物包括過渡金屬烷氧化物，且所述類金屬前驅物包括類金屬烷氧化物。

5.根據權利要求3所述的金屬青銅類化合物的制造方法，其特征在于，所述陽離子前驅物包括金屬乙酰丙酮化物、金屬乙酸鹽、金屬碳酸鹽、金屬碳酸氫鹽、過氧化氫或其組合。

6.根據權利要求3所述的金屬青銅類化合物的制造方法，其特征在于，所述反應在室溫或低溫下進行。

7.一種墨水，其特征在于，包括根據權利要求1所述的金屬青銅類化合物。