[發(fā)明專利]一種Ti合金工件防咬死的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611145210.5 | 申請日: | 2016-12-13 |
| 公開(公告)號: | CN108611590B | 公開(公告)日: | 2021-02-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 沈麗如;陳美艷;金凡亞;陳慶川;許澤金;但敏;祝土富;楊發(fā)展;尹星;趙云華 | 申請(專利權(quán))人: | 核工業(yè)西南物理研究院;成都同創(chuàng)材料表面新技術(shù)工程中心 |
| 主分類號: | C23C14/02 | 分類號: | C23C14/02;C23C14/06;C23C14/18;C23C14/35 |
| 代理公司: | 核工業(yè)專利中心 11007 | 代理人: | 高安娜 |
| 地址: | 610041 四川*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 ti 合金 工件 防咬死 方法 | ||
1.一種Ti合金工件防咬死的方法,其特征在于:步驟一、先用汽油和有機溶劑對Ti合金工件進(jìn)行超聲去油清洗,然后用氬氣吹干;將真空室內(nèi)部所有零件用無水乙醇擦洗后,然后吹干;步驟二、將工件安裝在真空室內(nèi)的工件架上,并使工件能夠在真空室內(nèi)實現(xiàn)公轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn);步驟三、關(guān)閉真空室,開始抽真空,當(dāng)真空度優(yōu)于5×10-2 Pa時,開啟加熱電源進(jìn)行加熱烘烤,直至加熱溫度達(dá)到300℃,同時真空度達(dá)到5.0×10-3 Pa時,達(dá)到真空室內(nèi)部和真空室內(nèi)部工件除氣的要求,本步驟結(jié)束;步驟四、當(dāng)溫度控制在300℃時,向真空室中充氬氣,真空度控制在0.4-0.6Pa,開啟霍爾離子源電源,功率為1000W;然后再開啟直流疊加脈沖偏壓電源,脈沖偏壓為1000V,占空比為80%;用離子束濺射清洗15分鐘,去除工件表面吸附雜質(zhì)和表面Ti氧化層,并進(jìn)行表面活化;步驟五、真空室內(nèi)的真空度維持不變,開啟Ti電弧靶電源,對工件表面進(jìn)行轟擊清洗,形成混合層;電弧靶電源的電流75A,開啟直流疊加脈沖偏壓電源,脈沖電壓為800V,調(diào)節(jié)占空比為80%,直流電壓為180V,轟擊清洗10分鐘;步驟六、真空室內(nèi)的真空度維持不變,電弧靶電源的電流不變;直流疊加脈沖偏壓電源的脈沖和直流電壓不變,將占空比調(diào)節(jié)為20%,沉積一層Ti作為過渡層,厚度為200nm;步驟七、真空室內(nèi)的真空度維持不變,將氬氣改為氮氣,直流疊加脈沖偏壓電源的脈沖和直流偏壓分別調(diào)節(jié)為600V和60V,占空比調(diào)節(jié)為15%,然后開啟霍爾離子源和中頻磁控濺射電源沉積TiN涂層,厚度為800nm;步驟八、重復(fù)步驟六、步驟七,循環(huán)六次;其中第六個循環(huán)中,TiN制備時間延長;步驟九、鍍膜工藝結(jié)束后,繼續(xù)向真空室中充入氬氣,待工件溫度低于100℃后即可開真空室取工件。
2.如權(quán)利要求1所述的一種Ti合金工件防咬死的方法,其特征在于:所述步驟七中沉積TiN涂層的厚度,針對不同的工件及工作條件需求調(diào)節(jié)涂層厚度。
3.如權(quán)利要求1所述的一種Ti合金工件防咬死的方法,其特征在于:所述第步驟八中,第六次循環(huán)形成的第六層TiN涂層厚度為1μm。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于核工業(yè)西南物理研究院;成都同創(chuàng)材料表面新技術(shù)工程中心,未經(jīng)核工業(yè)西南物理研究院;成都同創(chuàng)材料表面新技術(shù)工程中心許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201611145210.5/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





