[發明專利]固定環及拋光設備在審
| 申請號: | 201611143913.4 | 申請日: | 2016-12-13 |
| 公開(公告)號: | CN108214278A | 公開(公告)日: | 2018-06-29 |
| 發明(設計)人: | 陳世忠;彭升泰;謝子逸;紀元興;陳政炳 | 申請(專利權)人: | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號: | B24B37/00 | 分類號: | B24B37/00;B24B37/32 |
| 代理公司: | 南京正聯知識產權代理有限公司 32243 | 代理人: | 顧伯興 |
| 地址: | 中國臺灣新竹科*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 外側壁 凹槽側壁 所在平面 內側壁 固定環 導角 底面 拋光襯墊 拋光工件 拋光設備 鈍角 銳角 環繞 彼此相對 拋光工藝 | ||
1.一種環繞待拋光工件和維持待拋光工件與拋光襯墊相對位置的固定環,其特征在于,所述固定環具有內側壁、外側壁、連接所述內側壁以及所述外側壁的底面以及多個凹槽,
其中所述外側壁環繞所述內側壁,所述底面以及所述外側壁之間具有導角,且在拋光工藝中,所述底面與所述拋光襯墊接觸,
其中所述多個凹槽位于所述底面上,每一個凹槽具有彼此相對的第一凹槽側壁與第二凹槽側壁,且所述第一凹槽側壁的所在平面與所述內側壁的所在平面夾銳角且與所述外側壁的所在平面夾鈍角,所述第二凹槽側壁的所在平面與所述內側壁的所在平面夾鈍角且與所述外側壁的所在平面夾銳角,
其中所述第一凹槽側壁以及所述內側壁之間具有導角,且所述第二凹槽側壁以及所述外側壁之間具有導角。
2.根據權利要求1所述的固定環,其特征在于,其中所述多個凹槽等距排列于所述底面上。
3.根據權利要求1所述的固定環,其特征在于,其中所述外側壁為斜面,且所述底面的所在平面與所述外側壁的所在平面之間夾鈍角。
4.根據權利要求1所述的固定環,其特征在于,其中所述固定環的材質選自聚醚醚酮、聚乙烯、聚苯硫醚、聚酰胺酰亞胺或聚醚酰亞胺。
5.一種環繞待拋光工件和維持待拋光工件與拋光襯墊相對位置的固定環,其特征在于,所述固定環具有內側壁、外側壁、連接所述內側壁以及所述外側壁的底面以及多個凹槽,
其中所述外側壁為斜面并環繞所述內側壁,所述底面的所在平面與所述外側壁的所在平面之間夾鈍角,且在拋光工藝中,所述底面與所述拋光襯墊接觸,
其中所述多個凹槽位于所述底面上,每一個凹槽具有彼此相對的第一凹槽側壁與第二凹槽側壁,且所述第一凹槽側壁的所在平面與所述內側壁的所在平面夾銳角且與所述外側壁的所在平面夾鈍角,所述第二凹槽側壁的所在平面與所述內側壁的所在平面夾鈍角且與所述外側壁的所在平面夾銳角,
其中所述第一凹槽側壁以及所述內側壁之間具有導角,且所述第二凹槽側壁以及所述外側壁之間具有導角。
6.根據權利要求5所述的固定環,其特征在于,其中所述多個凹槽等距排列于所述底面上。
7.根據權利要求5所述的固定環,其特征在于,其中每一個凹槽更具有連接所述第一凹槽側壁與所述第二凹槽側壁的凹槽底表面,且每一個凹槽包括:
中間區域以及分別位于中間區域兩側的兩個端點區域,其中位于所述兩個端點區域的所述凹槽底表面的寬度大于位于所述中間區域的所述凹槽底表面的寬度。
8.一種拋光設備,其特征在于,包括:
拋光頭,裝載有固定環,其中所述固定環具有內側壁、外側壁、連接所述內側壁以及所述外側壁的底面以及多個凹槽,
其中所述外側壁環繞所述內側壁,所述底面以及所述外側壁之間具有導角,且在拋光工藝中,所述底面與所述拋光襯墊接觸,
其中所述多個凹槽位于所述底面上,每一個凹槽具有彼此相對的第一凹槽側壁與第二凹槽側壁,且所述第一凹槽側壁的所在平面與所述內側壁的所在平面夾銳角且與所述外側壁的所在平面夾鈍角,所述第二凹槽側壁的所在平面與所述內側壁的所在平面夾鈍角且與所述外側壁的所在平面夾銳角,
其中所述第一凹槽側壁以及所述內側壁之間具有導角,且所述第二凹槽側壁以及所述外側壁之間具有導角;
拋光襯墊,設置于拋光轉臺上;以及
拋光工件,位于所述拋光襯墊上方以及所述固定環內,其中所述拋光工件的待拋光面與所述固定環的所述內側側壁之間具有間隙,
其中,在進行拋光工藝中,所述拋光工件的待拋光面以及所述固定環的所述底面與所述拋光襯墊接觸。
9.根據權利要求8所述的拋光設備,其特征在于,其中所述多個凹槽等距排列于所述底面上。
10.根據權利要求8所述的拋光設備,其特征在于,其中所述外側壁為斜面,且所述底面的所在平面與所述外側壁的所在平面之間夾鈍角。
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