[發(fā)明專利]一種UV光前處理制備氧化銦/氧化鋁納米纖維場(chǎng)效應(yīng)晶體管的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201611143907.9 | 申請(qǐng)日: | 2016-12-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106601803B | 公開(公告)日: | 2019-07-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 單福凱;孟優(yōu);劉國(guó)俠 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 青島大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L29/775 | 分類號(hào): | H01L29/775;H01L21/02;D01F9/08;D01F6/56;D01F1/10;B82Y10/00 |
| 代理公司: | 青島高曉專利事務(wù)所(普通合伙) 37104 | 代理人: | 高澤玉 |
| 地址: | 266061 山*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 uv 處理 制備 氧化 氧化鋁 納米 纖維 場(chǎng)效應(yīng) 晶體管 方法 | ||
1.一種UV光前處理制備氧化銦/氧化鋁納米纖維場(chǎng)效應(yīng)晶體管的方法,其特征在于制備工藝步驟主要包括:
(1)制備Al2O3高k介質(zhì)薄膜:
先將硝酸鋁加入N,N二甲基甲酰胺中,配制濃度為0.3摩爾/升的Al2O3介電層前驅(qū)體溶液,在磁力攪拌器中旋轉(zhuǎn)6小時(shí),得到純凈透明的介電層前驅(qū)體溶液,靜置24小時(shí)備用;采用單面拋光電阻率小于0.0015Ω·cm的P型低阻硅作為襯底,用氫氟酸、丙酮和酒精依次對(duì)低阻硅襯底超聲波清洗各10分鐘,再用去離子水沖洗后用高純氮?dú)獯蹈蓚溆茫皇褂脛蚰z機(jī)在P型低阻硅襯底上旋涂Al2O3介電層前驅(qū)體溶液,勻膠機(jī)先設(shè)置500轉(zhuǎn)/分勻膠旋涂5秒,然后設(shè)置5000轉(zhuǎn)/分勻膠旋涂30秒后放置于150℃的烤膠臺(tái)上烘烤10分鐘,再對(duì)其進(jìn)行高溫600℃退火,退火時(shí)間為2小時(shí),得到厚度為30納米的Al2O3高k介質(zhì)薄膜;
(2)制備納米纖維:
將0.2克氯化銦、0.8克即130萬分子量的聚乙烯吡咯烷酮加入到5ml N,N二甲基甲酰胺中,用磁力攪拌器旋轉(zhuǎn)12小時(shí),得到透明的粘性的前驅(qū)體溶液備用;將步驟1制備得到的Al2O3高k介質(zhì)薄膜放置在靜電紡絲裝置接收端,靜電紡絲裝置針頭處連接直流高壓電源,接收端距離針頭為15cm;設(shè)置注射泵推進(jìn)速度為0.5毫升/小時(shí),直流高壓為15千伏,在電場(chǎng)力、庫侖力、表面張力等作用下,前驅(qū)體溶液噴出并劇烈抖動(dòng),納米纖維直徑顯著下降,最后被接收端接受,得到均勻分布的In2O3復(fù)合納米纖維;
(3)UV光處理:
將步驟2制備的In2O3復(fù)合納米纖維放置距離高壓汞燈15cm,用高壓汞燈產(chǎn)生的UV光處理30分鐘,其中汞燈波長(zhǎng)范圍為100-400納米,功率為1000瓦,處理后得到具有良好粘附性和界面狀態(tài)的光處理In2O3復(fù)合納米纖維;其紫外-可見吸收光譜分析表明In2O3復(fù)合納米纖維對(duì)波長(zhǎng)為350納米以下的UV光具有很強(qiáng)的光吸收;
(4)高溫煅燒:
對(duì)步驟3得到的光處理In2O3復(fù)合納米纖維進(jìn)行500℃高溫煅燒90分鐘,分解其中的有機(jī)物,形成得到In2O3納米纖維網(wǎng)絡(luò);
(5)光刻定型:
用勻膠機(jī)在步驟4中制得的In2O3納米纖維網(wǎng)絡(luò)上旋涂光刻膠,勻膠機(jī)先設(shè)置500轉(zhuǎn)/分勻膠旋涂5秒,然后在3000轉(zhuǎn)/分勻膠旋涂30秒,涂抹至光刻膠膠厚度為2微米,然后置于100℃下烘箱內(nèi)烘烤10分鐘;再利用掩膜版在光刻機(jī)上對(duì)涂抹光刻膠后的In2O3納米纖維網(wǎng)絡(luò)用200W交流高壓汞燈進(jìn)行紫外曝光25秒;將曝光后的In2O3納米纖維網(wǎng)絡(luò)放入顯影液中,顯影時(shí)間30秒后用去離子水反復(fù)沖洗,高純氮?dú)獯蹈桑粚@影完全的In2O3納米纖維網(wǎng)絡(luò)放入120℃烘箱烘烤20分鐘;用稀釋的鹽酸溶液將烘烤后露出的In2O3納米纖維網(wǎng)絡(luò)刻蝕定型,然后用丙酮將未曝光的光刻膠洗掉,再用去離子水反復(fù)沖洗,高純氮?dú)獯蹈桑玫蕉ㄐ虸n2O3納米纖維網(wǎng)絡(luò);
(6)離子束沉積源漏電極:
將步驟5中制得的定型In2O3納米纖維網(wǎng)絡(luò)放入離子束室并遮蔽,設(shè)置離子束室真空度為3×10-4Pa,氬氣流量為4SCCM,將離子束的燈絲電流加至4A后預(yù)熱5分鐘;待燈絲預(yù)熱完成后設(shè)置加速電流為10mA、放電電壓70V和工作氣壓4×10-2Pa;對(duì)Au、Ti或Al靶材預(yù)濺射10分鐘,以便去除Au、Ti或Al靶材表面的污染物;再將遮蔽的定型In2O3納米纖維網(wǎng)絡(luò)暴露并移至相應(yīng)的Au、Ti或Al靶位,在保持上述參數(shù)不變的情況下再次對(duì)靶材進(jìn)行濺射60分鐘,使得In2O3納米纖維網(wǎng)絡(luò)沉積Au、Ti或Al金屬薄膜,即制得氧化銦/氧化鋁納米纖維場(chǎng)效應(yīng)晶體管。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的UV光前處理制備氧化銦/氧化鋁納米纖維場(chǎng)效應(yīng)晶體管的方法制得的In2O3/Al2O3納米纖維場(chǎng)效應(yīng)晶體管,其特征在于其主體結(jié)構(gòu)包括P型低阻硅襯底、Al2O3層、In2O3納米纖維層、電極s和電極D;P型低阻硅襯底、Al2O3層和In2O3納米纖維層由內(nèi)向外依次固定連接,電極s和電極D分別固定設(shè)置在In2O3納米纖維層的兩端。
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H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的





