[發(fā)明專利]磁性薄膜結(jié)構(gòu)以及含有其的磁敏傳感器器件、應(yīng)用方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611140368.3 | 申請日: | 2016-12-12 |
| 公開(公告)號: | CN106597102B | 公開(公告)日: | 2020-05-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 余天;徐延浩;張兆偉 | 申請(專利權(quán))人: | 四川大學(xué) |
| 主分類號: | G01R27/02 | 分類號: | G01R27/02 |
| 代理公司: | 四川力久律師事務(wù)所 51221 | 代理人: | 王蕓;熊曉果 |
| 地址: | 610065 四川*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 磁性 薄膜 結(jié)構(gòu) 以及 含有 傳感器 器件 應(yīng)用 方法 | ||
1. 一種用于微波探測的磁敏傳感器,該磁敏傳感器為兩端器件,包含磁性薄膜結(jié)構(gòu),其特征在于,該磁性薄膜結(jié)構(gòu)有且僅有兩個磁性層,磁性薄膜結(jié)構(gòu)從上至下依次為:第二磁性層、非磁層及第一磁性層;所述第一磁性層具有固定磁化方向,第二磁性層具有不同的初始可變的磁化方向,同時,第一磁性層矯頑力Hc1與第二磁性層矯頑力Hc2滿足Hc1>Hc2,納米磁性薄膜結(jié)構(gòu)具有自旋整流效應(yīng); 所述非磁層材料為非磁金屬、非磁半導(dǎo)體或非磁絕緣體;
還包含襯底、緩沖層及覆蓋層;
所述緩沖層設(shè)置在襯底上,所述第一磁性層設(shè)置在所述緩沖層上;所述覆蓋層設(shè)置在第二磁性層上;
所述第一磁性層、第二磁性層分別與兩個電極接口導(dǎo)通,分別為第一磁性層第 一電極、第一磁性層第二電極、第二磁性層第一電極及第二磁性層第二電極。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于微波探測的磁敏傳感器,其特征在于,
所述第一磁性層可為鐵磁材料層,鐵磁材料層與非磁材料層構(gòu)成的人工反鐵磁結(jié)構(gòu),或鐵磁材料與反鐵磁合金材料構(gòu)成的直接釘扎結(jié)構(gòu),或鐵磁材料、反鐵磁合金材料和非磁材料構(gòu)成的間接釘扎結(jié)構(gòu);所述人工反鐵磁結(jié)構(gòu)是指FM/NM/FM;
所述直接釘扎結(jié)構(gòu)是指反鐵磁層AFM直接和鐵磁層FM接觸構(gòu)成AFM/FM結(jié)構(gòu);所述的間接釘扎結(jié)構(gòu)是指在反鐵磁層和鐵磁層之間插一層很薄的非磁性金屬層即AFM/NM/FM結(jié)構(gòu),或者,插入復(fù)合層構(gòu)成AFM/FM/NM/FM結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于微波探測的磁敏傳感器,其特征在于,第二磁性層可為鐵磁材料層,鐵磁材料層與非磁材料層構(gòu)成的人工反鐵磁結(jié)構(gòu),所述人工反鐵磁結(jié)構(gòu)是指FM/NM/FM。
4.一種將如權(quán)利要求1至3任一項所述的磁敏傳感器磁電阻率放大和輸出電壓窗口進(jìn)行調(diào)制的方法,其特征在于,施加直流工作電流的同時給予所述磁性薄膜結(jié)構(gòu)或相應(yīng)磁敏傳感器-30dBm~20dBm,頻率在0.1GHz~70GHz的時變電磁激勵。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的磁敏傳感器磁電阻率放大和輸出電壓窗口進(jìn)行調(diào)制的方法,其特征在于:實現(xiàn)時變電磁激勵的方式為直接注入微波電流,或利用微波磁場與第二磁性層耦合產(chǎn)生的磁共振,或利用微波電場與第二磁性層作用產(chǎn)生的電場導(dǎo)致的磁共振。
6.一種將如權(quán)利要求1所述的磁敏傳感器進(jìn)行頻率已知的微波功率的探測方法,其特征在于,包含如下步驟:定標(biāo):在給定磁場條件下,向所述磁性薄膜結(jié)構(gòu)或相應(yīng)磁敏傳感器中注入指定已知頻率下的不同功率的微波,測量第一磁性層與第二磁性層之間的電壓值,并將該電壓值與微波功率對照記錄;
測量:在相同給定磁場條件下,輸入待測功率微波,并測量第一磁性層與第二磁性層之間的電壓值,利用上一步驟中的對照記錄得出注入所述磁性薄膜結(jié)構(gòu)或相應(yīng)磁敏傳感器中的微波的功率。
7.一種將如權(quán)利要求1所述的磁敏傳感器進(jìn)行未知頻率的微波功率的探測方法,其特征在于,
包含如下步驟:
定標(biāo):在給定磁場條件下,通過測量不同指定頻率下不同功率微波下磁性薄膜結(jié)構(gòu)或相應(yīng)磁敏傳感器磁電阻率,獲得不同頻率與功率與磁電阻率的對應(yīng)關(guān)系表;
測量:在相同給定磁場條件下,向所述磁性薄膜結(jié)構(gòu)或相應(yīng)磁敏傳感器中注入待測微波,并測量磁性薄膜結(jié)構(gòu)或相應(yīng)磁敏傳感器的磁電阻率,根據(jù)該磁電阻率對照對應(yīng)關(guān)系表獲取待測微波功率。
8.如權(quán)利要求7所述的探測方法,其特征在于,注入待測微波后,測量磁性薄膜結(jié)構(gòu)或相應(yīng)磁敏傳感器的磁電阻率的方法包括如下步驟:
對磁性薄膜結(jié)構(gòu)或相應(yīng)磁敏傳感器施加直流工作電流I0,對于給定的磁場H測量第二磁性層與第一磁性層之間電壓V'(H);
利用外磁場調(diào)節(jié)所述第二磁性層磁化方向與第一磁性層反向平行,對第一磁性層施加直流工作電流I0,測量第二磁性層與第一磁性層之間電壓V'AP;
計算實時磁電阻率MR'=(R'AP-R'(H))/R'AP其中,R'AP=V'AP/I0R'(H)=V'(H)/I0。
9.如權(quán)利要求8所述的探測方法,其特征在于,注入待測微波后,測量磁性薄膜結(jié)構(gòu)或相應(yīng)磁敏傳感器磁電阻率的方法包括如下步驟:
測量待測微波下的磁電阻率MR'后,利用至少一個已知衰減分貝數(shù)為P-a的衰減器將待測微波衰減后注入磁性薄膜結(jié)構(gòu)或相應(yīng)磁敏傳感器,并再次測量磁性薄膜的磁電阻率;利用多次測量的結(jié)果同時對照對應(yīng)關(guān)系表以同時獲取待測微波功率和/或頻率。
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