[發(fā)明專利]用于沉積流體的液滴的液滴沉積設(shè)備和方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201611139217.6
• 申請日: 2013-08-12
• 公開（公告）號: CN106696465A
• 公開（公告）日: 2017-05-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 保羅·雷蒙德·德魯里;安格斯·康蒂;阿薩納西奧斯·卡納里斯
• 申請（專利權(quán)）人: 薩爾技術(shù)有限公司
• 主分類號: B41J2/14
• 分類號: B41J2/14
• 代理公司: 北京安信方達知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11262
• 代理人: 崔麗娟,鄭霞

1.一種液滴噴射設(shè)備，包括：

長形的流體室的陣列，每一個長形的流體室與用于液滴噴射的孔口連通，所述陣列在陣列方向延伸，每一個孔口具有入口和出口；

共同的流體入口歧管；

共同的流體出口歧管；以及

用于產(chǎn)生從所述共同的流體入口歧管穿過所述陣列中的每一個長形的流體室并且進入所述共同的流體出口歧管的流體的通流(Q_TF)的裝置；

其中所述長形的流體室中的每一個在一個縱向端部與所述共同的流體入口歧管連通并且在相對的縱向端部與所述共同的流體出口歧管連通；

其中每一個長形的流體室與至少一個壓電致動器相關(guān)聯(lián)以用于產(chǎn)生自所述孔口的液滴噴射，導(dǎo)致自所述長形的流體室并從所述孔口離開的流體的噴射流動，所述噴射流動與所述通流同時發(fā)生，所述噴射流動具有最大值Q_E；

其中所述孔口設(shè)置在具有t微米厚度的孔口板中，每一個孔口成錐形從而界定錐度角θ，其中所述出口的面積小于所述入口的面積；以及

其中所述長形的流體室中的每一個在所述陣列方向具有w微米的寬度，從而界定實際圓形面積A_P＝1/4π(w-e-2t·tanθ)²，其中e采取在5和10微米之間的值，用于每一個室的所述孔口的所述出口具有面積A_n，其中3A_P>A_n>1.25A_P。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述壓電致動器中的每一個壓電致動器的致動在相應(yīng)的長形的流體室的縱向端部中的每一個處產(chǎn)生聲波，所述聲波然后朝向所述孔口行進。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，對于所述孔口中的每一個孔口，所述出口的長徑比小于所述入口的長徑比。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，所述孔口中的每一個孔口的所述出口是近似地圓形。

5.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3或4中任一項所述的設(shè)備，其中，Q_TF的值足以確保返回至所述共同的流體出口歧管的流體的溫度大體上保持在從所述共同的流體入口歧管進入所述長形的流體室的流體的2℃內(nèi)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3或4中任一項所述的設(shè)備，其中所述通流的量使得Q_TF>0.25Q_E。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備，其中所述通流的量使得Q_TF>Q_E。

8.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3或4中任一項所述的設(shè)備，其中，所述長形的流體室中的每一個在兩個長形的室壁之間界定。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其中，所述室壁包含壓電材料，所述壓電致動器中的每一個包括所述室壁中的相應(yīng)的一個。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其中，所述室壁的頂部邊緣共同提供大體上平面的表面，所述孔口板附接至所述表面。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其中，所述壓電致動器中的每一個沿著相應(yīng)的長形的流體室的長度延伸。

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其中，所述壓電致動器中的每一個大體上從所述長形的流體室的第一端部延伸至所述長形的流體室的第二端部。

13.根據(jù)權(quán)利要求10-12中任一項所述的設(shè)備，其中，所述室壁包含壓電材料，所述壓電致動器中的每一個包括所述室壁中的相應(yīng)的一個。

14.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3、4、9、10、11或12中任一項所述的設(shè)備，其中，所述長形的流體室的縱向軸線平行于通道延伸方向。