[發(fā)明專利]光刻膠噴嘴及其使用方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201611137774.4
• 申請日: 2016-12-12
• 公開（公告）號: CN108227387B
• 公開（公告）日: 2021-03-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 林裕翔;沈裕閔
• 申請（專利權(quán)）人: 臺灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16
• 代理公司: 南京正聯(lián)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32243
• 代理人: 顧伯興

本發(fā)明實施例提供一種光刻膠噴嘴及其使用方法。光刻膠噴嘴包括尖端，其中尖端包括第一部分以及第二部分。第一部分具有第一流體溝道，以使第一部分具有圓錐狀的中空結(jié)構(gòu)，且第一部分具有第一內(nèi)表面以及第一外表面。第二部分具有第二流體溝道，以使第二部分具有圓錐狀的中空結(jié)構(gòu)，且第二部分具有第二內(nèi)表面以及第二外表面。第二部分連接第一部分，第一內(nèi)表面與第二內(nèi)表面相接且為共平面，且第一外表面與第二外表面相接且具有夾角。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明實施例是有關(guān)于一種噴嘴及其使用方法，且特別是有關(guān)于一種光刻膠噴嘴及其使用方法。

背景技術(shù)

半導體集成電路(integrated circuit，IC)工業(yè)已歷經(jīng)快速成長的階段。在IC材料與設(shè)計方面的技術(shù)發(fā)展的多個IC世代中，每個世代具有相較于前一世代更小且更復雜的電路。換言之，這樣的IC發(fā)展趨勢使得加工與制造IC的復雜度以及精密度亦同時提高。目前各方正努力開發(fā)適用于較高的加工與制造IC的復雜度以及精密度的技術(shù)與設(shè)備。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明實施例提供一種光刻膠噴嘴。光刻膠噴嘴包括尖端，其中尖端包括第一部分以及第二部分。第一部分具有第一流體溝道，以使第一部分具有圓錐狀的中空結(jié)構(gòu)，且第一部分具有第一內(nèi)表面以及第一外表面。第二部分具有第二流體溝道，以使第二部分具有圓錐狀的中空結(jié)構(gòu)，且第二部分具有第二內(nèi)表面以及第二外表面。第二部分連接第一部分，第一內(nèi)表面與第二內(nèi)表面相接且為共平面，以使第一流體溝道與第二流體溝道相連接，且第一外表面與第二外表面相接且在相接處具有夾角。

本發(fā)明實施例提供一種光刻膠噴嘴。光刻膠噴嘴包括尖端以及主體。尖端具有圓錐狀的中空結(jié)構(gòu)，其中尖端包括第一部分以及第二部分。第一部分具有第一內(nèi)表面、第一外表面以及第一流體溝道。第二部分具有第二內(nèi)表面、第二外表面以及第二流體溝道。第二流體溝道連接第一流體溝道，第一內(nèi)表面與第二內(nèi)表面為共平面，第一外表面與第二外表面之間具有夾角。主體具有連接第二流體溝道的主體流體溝道，其中第二流體溝道位于第一流體溝道與主體流體溝道之間。

本發(fā)明實施例一種光刻膠噴嘴的使用方式，包括以下步驟。提供光刻膠供給裝置，其中光刻膠供給裝置具有上述光刻膠噴嘴。提供光刻膠儲存裝置以及光刻膠吸取裝置，其中光刻膠儲存裝置以及光刻膠吸取裝置連接光刻膠供給裝置。提供光刻膠至光刻膠儲存裝置。透過光刻膠吸取裝置使位于光刻膠儲存裝置中的光刻膠流經(jīng)光刻膠噴嘴而噴涂至待涂布的物件上。

基于上述，在本發(fā)明實施例中，藉由光刻膠噴嘴的尖端具有圓錐狀的中空結(jié)構(gòu)，光刻膠噴嘴可加強控制位于內(nèi)部流體溝道中的光刻膠液面的水平的一致性，使得光刻膠噴嘴內(nèi)的光刻膠具有穩(wěn)定液面，進而減少回吸氣泡。

附圖說明

根據(jù)以下的詳細說明并配合所附圖式以了解本發(fā)明實施例。應(yīng)注意的是，根據(jù)本產(chǎn)業(yè)的一般作業(yè)，各種特征并未按照比例繪制。事實上，為了清楚說明，可能任意的放大或縮小組件的尺寸。

圖1為依據(jù)一些本發(fā)明實施例的光刻膠噴嘴的剖面示意圖。

圖2為依據(jù)一些本發(fā)明實施例示意性地繪示光刻膠噴嘴以及使用光刻膠噴嘴的相關(guān)裝置。

圖3為依據(jù)一些本發(fā)明實施例的光刻膠噴嘴的使用方法的流程圖。

附圖標號說明

100：光刻膠噴嘴；

101：第一部分；

101a：第一內(nèi)表面；

101b：第一外表面；

101c：第一流體溝道；

102：第二部分；

102a：第二內(nèi)表面；

102b：第二外表面；

102c：第二流體溝道；