[發明專利]一種含氰污染土壤及地下水原位修復的方法在審
| 申請號： | 201611133132.7 | 申請日： | 2016-12-10 |
| 公開（公告）號： | CN106734144A | 公開（公告）日： | 2017-05-31 |
| 發明（設計）人： | 陳小鳳;呂本儒;吳啟模;吳見珣;郭小偉;李金勇;和學友 | 申請（專利權）人： | 云南大地綠坤環保科技有限公司 |
| 主分類號： | B09C1/02 | 分類號： | B09C1/02;B09C1/08;B09C1/00 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 污染 土壤 地下水 原位 修復 方法 | ||
1.一種含氰污染土壤及地下水原位修復的方法，其特征在于：包括以下步驟：
1) 選擇含氰污染土壤及其地下水含氰的土壤地塊，對其表面進行原位修復；
2）在含氰污染土壤及其地下水含氰的土壤地塊設置灌注孔，采用連續型通道，形成可滲透反應墻FRB，可滲透反應墻與水平面保持傾斜角度；
3）通過灌注孔加入可滲透反應墻介質，調節可滲透反應墻介質pH值，破氰處理；
4）定期養護。
2.根據權利要求1所述的一種含氰污染土壤及地下水原位修復的方法，其特征在于：所述含氰污染土壤含水率為15%～85%，氰含量為5～1000mg/kg。
3.根據權利要求1所述的一種含氰污染土壤及地下水原位修復的方法，其特征在于：所述含氰污染地下水中氰含量為0.1～300mg/L。
4.根據權利要求1所述的一種含氰污染土壤及地下水原位修復的方法，其特征在于：所述含氰污染土壤及地下水pH值為6～9。
5.根據權利要求1所述的一種含氰污染土壤及地下水原位修復的方法，其特征在于：步驟1）所述原位修復是對污染土壤表面進行降水或加氧化劑氧化淋洗，不需要對含氰污染土壤進行移動。
6.根據權利要求1所述的一種含氰污染土壤及地下水原位修復的方法，其特征在于：步驟2）所述可滲透反應墻與水平面的傾斜角度為35Ο～90Ο。
7.根據權利要求1所述的一種含氰污染土壤及地下水原位修復的方法，其特征在于：步驟3）所述可滲透反應墻介質為石灰和氧化劑。
8.根據權利要求1所述的一種含氰污染土壤及地下水原位修復的方法，其特征在于：步驟3）所述可滲透反應墻介質pH值為石灰調節反應體系pH值為9～12。
9.根據權利要求7所述的一種含氰污染土壤及地下水原位修復的方法，其特征在于：所述氧化劑為漂白粉、次氯酸鈉兩種之一或為其混合物。
10.根據權利要求1所述的一種含氰污染土壤及地下水原位修復的方法，其特征在于：步驟3）所述破氰處理為加入氧化劑氧化氰根離子，除去氰化物。
11.根據權利要求1所述的一種含氰污染土壤及地下水原位修復的方法，其特征在于：步驟4）所述定期養護的時間為8小時～60天。
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