[發(fā)明專利]具有應(yīng)變傳感器和熱反應(yīng)性特征的構(gòu)件和監(jiān)測(cè)構(gòu)件的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201611128987.0 | 申請(qǐng)日: | 2016-12-09 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107014343A | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-08-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | P.G.博加帕;J.L.伯恩賽德 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 通用電氣公司 |
| 主分類號(hào): | G01B21/32 | 分類號(hào): | G01B21/32;G01K11/12 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 嚴(yán)志軍,譚祐祥 |
| 地址: | 美國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 應(yīng)變 傳感器 反應(yīng) 特征 構(gòu)件 監(jiān)測(cè) 方法 | ||
1.一種構(gòu)件,包括:
基底;
應(yīng)變傳感器,包括設(shè)置于所述基底上的至少兩個(gè)參考點(diǎn);以及
一個(gè)或更多個(gè)熱反應(yīng)性特征,在所述基底上設(shè)置成鄰近于所述應(yīng)變傳感器,其中,所述一個(gè)或更多個(gè)熱反應(yīng)性特征對(duì)一個(gè)或更多個(gè)高溫起反應(yīng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的構(gòu)件,其中,所述一個(gè)或更多個(gè)熱反應(yīng)性特征包括對(duì)第一高溫起反應(yīng)的第一熱反應(yīng)性特征和對(duì)比所述第一高溫更高的第二高溫起反應(yīng)的第二熱反應(yīng)性特征。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的構(gòu)件,其中,所述一個(gè)或更多個(gè)熱反應(yīng)性特征進(jìn)一步包括對(duì)比所述第二高溫更高的第三高溫起反應(yīng)的第三熱反應(yīng)性特征。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的構(gòu)件,其中,所述一個(gè)或更多個(gè)熱反應(yīng)性特征通過(guò)改變顏色而對(duì)所述一個(gè)或更多個(gè)高溫起反應(yīng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的構(gòu)件,其中,所述一個(gè)或更多個(gè)熱反應(yīng)性特征通過(guò)從所述構(gòu)件消失而對(duì)所述一個(gè)或更多個(gè)高溫起反應(yīng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的構(gòu)件,進(jìn)一步包括設(shè)置于所述基底與所述應(yīng)變傳感器之間的涂層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的構(gòu)件,其中,所述涂層還設(shè)置于所述基底與所述一個(gè)或更多個(gè)熱反應(yīng)性特征之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的構(gòu)件,其中,所述一個(gè)或更多個(gè)熱反應(yīng)性特征包括彼此分離的多個(gè)熱反應(yīng)性特征。
9.一種構(gòu)件,包括:
基底;和
應(yīng)變傳感器,包括設(shè)置于所述基底上的至少兩個(gè)參考點(diǎn),其中,所述應(yīng)變傳感器包括對(duì)一個(gè)或更多個(gè)高溫起反應(yīng)的熱反應(yīng)性特征。
10.一種用于監(jiān)測(cè)構(gòu)件的方法,所述方法包括:
測(cè)量在第二時(shí)段的所述構(gòu)件上的應(yīng)變傳感器的至少兩個(gè)參考點(diǎn)之間的第二距離;
將所述應(yīng)變傳感器的所述至少兩個(gè)參考點(diǎn)之間的所述第二距離與自第一時(shí)段的在所述應(yīng)變傳感器的所述至少兩個(gè)參考點(diǎn)之間的第一距離比較,以確定所述第一時(shí)段與所述第二時(shí)段之間的應(yīng)變;
基于在所述構(gòu)件上設(shè)置成鄰近于所述應(yīng)變傳感器的一個(gè)或更多個(gè)熱反應(yīng)性特征的反應(yīng),來(lái)確定所述第一時(shí)段與所述第二時(shí)段之間的暴露的高溫;以及
將所述暴露的高溫與所述應(yīng)變相互參考。
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