[發明專利]涂層檢查方法

有效

• 申請號: 201611128506.6
• 申請日: 2016-12-09
• 公開（公告）號: CN107037065B
• 公開（公告）日: 2021-06-22
• 發明（設計）人: S.西瓦拉馬克里什南;W.C.哈什;K.H.布羅斯南;J.E.墨菲
• 申請（專利權）人: 通用電氣公司
• 主分類號: G01N23/223
• 分類號: G01N23/223
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 林毅斌;黃念

1.一種確定隔熱涂層中材料沉積均勻性的方法，所述方法包括：

(a)用激勵輻射照射隔熱涂層表面，其中隔熱涂層設置在超合金基底上或金屬結合涂層的超合金基底上，并且其中隔熱涂層包含多個在表面的表面連通開口和在至少一些表面開口中布置的材料，所述材料包含：

i. 一種或多種磷光體；和

ii. 一種或多種保護劑；

(b)檢測來自材料的響應激勵輻射的發射輻射；并且

(c)作為表面上位置的函數基于檢測的發射輻射強度記錄隔熱涂層內材料的分布。

2.權利要求1的方法，其中，在用激勵輻射照射其中布置材料的區域后，從一種或多種布置磷光體發射的光的波長不同于在相同照射下原有隔熱涂層發射的光的任何波長。

3.權利要求1的方法，所述方法進一步包括基于材料的記錄分布確定材料不足濃度的區域，并在材料不足濃度的區域布置額外量的材料。

4.權利要求1的方法，其中所述激勵輻射為紫外(UV)光。

5.權利要求1的方法，其中所述磷光體以材料0.1%重量至5%重量的量存在于材料中。

6.權利要求1的方法，其中所述磷光體以材料0.1%重量至2.5%重量的量存在于材料中。

7.權利要求1的方法，其中所述磷光體包含基質和活化劑。

8.權利要求1的方法，其中所述磷光體包含以下一個或多個：銪、鎢、鉬、鉛、硼、鈦、錳、鈾、鉻、鋱、鏑、釔、鈰、釓、鑭、磷、氧、镥或氮。

9.權利要求8的方法，其中所述磷光體包含銪。

10.權利要求9的方法，其中銪以材料0.1%重量至5%重量的量存在于材料中。

11.權利要求9的方法，其中銪以材料0.1%重量至2.5%重量的量存在于材料中。

12.權利要求1的方法，其中所述保護劑為隔離劑、抗鈣-鎂-鋁-硅-氧化物劑或其組合。

13.權利要求1的方法，其中所述材料包含隔離劑和磷光體。

14.權利要求1的方法，其中所述材料包含抗鈣-鎂-鋁-硅-氧化物劑和磷光體。

15.權利要求12的方法，其中在第一量中，布置的材料包含一種或多種隔離劑，且在第二量中，布置的材料包含一種或多種抗鈣-鎂-鋁-硅-氧化物劑。

16.權利要求15的方法，其中在第一量中，布置的材料包含一種或多種隔離劑和第一磷光體，且在第二量中，布置的材料包含一種或多種抗鈣-鎂-鋁-硅-氧化物劑和第二磷光體，其中在用激勵輻射照射其中布置一個或多個量的材料的區域后，從第一磷光體發射的光的波長不同于由第二磷光體發射的光的波長。

17.權利要求12的方法，其中所述抗鈣-鎂-鋁-硅-氧化物劑包含一種或多種稀土元素或堿土元素或其組合。

18.權利要求17的方法，其中所述一種或多種稀土元素選自鑭、釹、鉺、鈰和釓。

19.權利要求17的方法，其中所述一種或多種堿土元素選自鈹、鎂、鈣、鍶、鋇和鐳。

20.權利要求17的方法，其中所述抗鈣-鎂-鋁-硅-氧化物劑包括氮化物、氧化物或其組合。

21.權利要求17的方法，其中所述抗鈣-鎂-鋁-硅-氧化物劑還包含鋯、鉿、鈦、鉭或鈮。