[發明專利]感光性樹脂組成物、保護膜以及液晶顯示元件有效
申請號: | 201611128296.0 | 申請日: | 2016-12-09 |
公開(公告)號: | CN106909028B | 公開(公告)日: | 2020-06-05 |
發明(設計)人: | 許智航;吳明儒;施俊安 | 申請(專利權)人: | 奇美實業股份有限公司 |
主分類號: | G03F7/075 | 分類號: | G03F7/075;G02B1/14 |
代理公司: | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人: | 陶敏;臧建明 |
地址: | 中國臺灣臺南*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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摘要: | |||
搜索關鍵詞: | 感光性 樹脂 組成 保護膜 以及 液晶顯示 元件 | ||
本發明提供一種感光性樹脂組成物、保護膜以及液晶顯示元件,其能夠提供良好的透明性與耐化學性。所述組成物包括:復合樹脂(A)、鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)以及溶劑(C),其中復合樹脂(A)包括主鏈及側鏈,主鏈包括(甲基)丙烯酸硅氧烷酯系單體(a1?2)的衍生重復單元;側鏈包括硅氧烷系單體(a2)的衍生重復單元,且鍵結于(甲基)丙烯酸硅氧烷酯系單體(a1?2)的衍生重復單元;且復合樹脂(A)符合下述條件(I)及(II)中的至少一個:條件(I):主鏈還包括含羧酸或羧酸酐的不飽和單體(a1?1)的衍生重復單元。條件(II):硅氧烷系單體(a2)包括以通式(A?4)所示的單體(a2?1),通式(A?4)與說明書中所定義的相同。
技術領域
本發明涉及一種感光性樹脂組成物、保護膜及具有保護膜的元件,尤其涉及一種可形成透明性佳與耐化學性佳的保護膜的感光性樹脂組成物、由該感光性樹脂組成物所形成的保護膜、以及包括上述保護膜的液晶顯示元件。
背景技術
近年來,在半導體工業、液晶顯示器或有機電激發光顯示器等領域中,隨著尺寸的日益縮小化,對于微影制程中所需的圖案的微細化也要求日高。為了達到微細化的圖案,一般通過具有高解析及高感度的正型感光性材料經曝光及顯影而形成,其中,以聚硅氧烷聚合物為成分的正型感光性材料漸成為業界使用的主流。
日本特開2008-107529號揭示一種可形成高透明度的硬化膜的感光性樹脂組成物。該組成物中使用含環氧丙烷基或丁二酸酐基的聚硅氧烷聚合物,其于共聚合時經開環反應形成親水性的結構,雖可于稀薄堿性顯影液下得到高溶解性,然而,該感光性樹脂組成物的耐化學性不佳,因此仍無法令業界所接受。
因此,業界亟待尋求一種能兼顧高透明性及耐化學性優異的感光性樹脂組成物。
發明內容
有鑒于此,本發明提供一種用于液晶顯示元件的感光性樹脂組成物,其能夠改善現有保護膜的透明性與耐化學性不佳的問題。
本發明提供一種感光性樹脂組成物,其包括復合樹脂(A)、鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)以及溶劑(C),其中復合樹脂(A)包括主鏈及側鏈,主鏈包括(甲基)丙烯酸硅氧烷酯系單體(a1-2)的衍生重復單元;側鏈包括硅氧烷系單體(a2)的衍生重復單元,且鍵結于(甲基)丙烯酸硅氧烷酯系單體(a1-2)的衍生重復單元;且復合樹脂(A)符合下述條件(I)及條件(II)中的至少一個:
條件(I):主鏈不包括含羧酸或羧酸酐的不飽和單體(a1-1)的衍生重復單元,含羧酸或羧酸酐的不飽和單體(a1-1)包含羧酸基結構及不飽和鍵,或者包含羧酸酐結構及不飽和鍵;
條件(II):硅氧烷系單體(a2)包括以下述通式(A-4)所示的單體(a2-1)。
Si(R7)w(OR8)4-w 通式(A-4)
通式(A-4)中,R7表示以下述通式(A-5)、通式(A-6)或通式(A-7)所示的結構、或碳數1~10的烴基、未經取代或部分氫原子以鹵素或碳數1~10的烴基取代的苯基,但至少一個R7表示以下述通式(A-5)、通式(A-6)或通式(A-7)所示的結構。R8表示氫原子、碳數1~6的烴基、碳數1~6的酰基、或碳數6~15的芳香基。當通式(A-4)中具有2個以上的R7或R8時,各個R7或R8可彼此相同或不同。w表示1~3的整數。
通式(A-5)中,R9表示碳數1~10的烴基;m為0或1;*表示鍵結處。
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