[發明專利]一種首飾用硬質千足金的表面處理工藝有效
| 申請號： | 201611126812.6 | 申請日： | 2016-12-09 |
| 公開（公告）號： | CN106756827B | 公開（公告）日： | 2019-02-15 |
| 發明（設計）人： | 李銀余 | 申請（專利權）人： | 嘉興市納川真空科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34;C23C14/16;C22C5/02 |
| 代理公司： | 北京中濟緯天專利代理有限公司 11429 | 代理人： | 王菊花 |
| 地址： | 314000 浙江省嘉*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 千足金 靶材 首飾 表面處理工藝 硬質 雙層輝光等離子 表面處理技術 低溫等離子體 硬化合金層 表面硬化 工作氣壓 合金原子 輝光放電 源級電壓 色彩度 硬化層 吸附 源級 轟擊 飾品 保溫 硬化 擴散 | ||
【權利要求書】：
1.一種首飾用硬質千足金的表面處理工藝，其特征在于，采用雙層輝光等離子表面處理技術，利用輝光放電所產生的低溫等離子體，使源級靶材中能使千足金硬化的合金原子，吸附和擴散在升溫至一定溫度且保溫一段時間的千足金飾品表面，形成硬質合金層；
其中，源極靶材采用粉末冶金工藝制備，其合金重量比例為Au：60％～75％，Ti：5～35％，Dy：2％～18％，Te：1～10％。
2.如權利要求1所述的表面處理工藝，其特征在于，硬質合金層厚度為5～15微米，其硬度達到HV190～250以上。
3.如權利要求1所述的表面處理工藝，其特征在于，源級電壓為800～1000V。
4.如權利要求1所述的表面處理工藝，其特征在于，工件極電壓為50～200V。
5.如權利要求1所述的表面處理工藝，其特征在于，工作氣壓為100～1000Pa。
6.如權利要求1所述的表面處理工藝，其特征在于，極間距為200mm～500mm。
7.如權利要求1所述的表面處理工藝，其特征在于，所述升溫至一定溫度為500～800℃，保溫一段時間為10～30min。
8.如權利要求1或2所述的表面處理工藝，其特征在于，源極靶材為一端封閉的層間距為1～3cm的雙層圓柱體結構，其上設置均勻分布的圓孔。
9.如權利要求8所述的表面處理工藝，其特征在于，圓孔直徑為5mm～10mm。
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